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1.
新型离子源控制电路   总被引:2,自引:0,他引:2  
阐述了一种离子源的新型控制电路,根据了子渗氮炉,离子渗碳炉,离子渗金属炉工况的特点,本电路采用了独特的控制方式,大量使用了性能优良的555时基片,该控制电路结构简单,工作可靠,调整方便,性能优良。  相似文献   
2.
真空等离子渗碳技术及其设备的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
鲁济顺  刘承仁 《真空》1994,(4):11-17
本文介绍了等离子渗碳的基本原理及其特点。较详细的介绍了ZLCD-65-50型真空等离子渗碳炉的主要技术参数及其结构特点,以及工艺参数的控制与选择范围。并介绍了该设备的重要部件阴极输电装置,及用丙酮-氨气作为渗剂的等离子渗碳工艺方法。  相似文献   
3.
在大连市技术协作委员会组织的离子氮化攻关活动中,对“压实测温”法进行了试验,经几年来的生产检验证明:该法测温头结构简单、测温准确(测温误差小于±10℃)。现将测温方法介绍如下。  相似文献   
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