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使用直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)装置,控制合适的工艺参数可对置于其阴阳极上的试样沉积出以Si_3N_4为主要成分的薄膜,本文提出了在阴极以及阳极上都能使试样表面得到这种薄膜的机制模型。正电荷的积累和自由电子的质扩散对于阴极试样表面薄膜的形成起着重要的作用。阳极试样表面薄膜的形成则与电子的积累和正离子的扩散及重力对粒子的作用有关。 相似文献
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硅的氮化物薄膜用DC-PCVD装置沉积,这种装置在沉积过程中仅用直流电源。涂覆用的基体材料是单晶硅、2Cr13不锈钢等。用扫描电镜研究了薄膜的形态,用红外光谱、X射线衍射仪、透射电镜确认了薄膜的成分、结构。这些结果表明:涂覆试样由表面的超硬层,过渡层、基体三部分组成;超硬层主要含非晶态的Si_2N_4;薄膜由许多致密堆积的小球组成。涂覆试样的表面硬度(H_(V0.02))大约是43000~47000 MPa。涂层与基体之间结合力为15N左右。 相似文献
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利用光学显微镜X射线衍射仪及透射电镜分析了钢样的渗硼铬及CVD复合处理后涂层的组织形态,相结构等。涂层的组织由Ti2N、Cr_7C_3及Fe_2B等相组成:对比了GCr15钢复合涂层与其它处理的耐磨性能,证实了渗硼渗铬及CVD复合处理的耐磨性能较好。 相似文献
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本文详细分析了TiCl_4-H_2-N_2系化学气相沉积TiN的化学过程及其热力学。计算结果表明:TiN的形成历程是TiCl_4进入体系的初期首先是气相还原反应,当TiCl_4量达到一定程度时还原产物输运到基体表面主要进行的是固气界面沉积TiN的反应。 相似文献
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薄膜强化能显著改变材料的各种表面性能,因而在材料工程领域内具有广阔的发展前景。膜基结合强度是膜基复合材料性能的一个基本要求。本文综述了膜基结合强度的各种试验方法,并概述了提高膜基结合强度的途径。 相似文献