镀铜膜工艺在高功率输入耦合器中的应用

高功率输入耦合器是为自由电子激光装置的超导腔传输微波功率的部件。为了提高传输性能,需要在耦合器上镀铜膜。本研究基于2种不同镀铜膜工艺实验,通过EDS线扫描、粗糙度、XRD和残余电阻率(RRR)对比分析在室温(25℃)以及200、400、600和910℃等4种不同温度退火后镀铜膜的性能变化,确定出适合特殊环境条件下高功率输入耦合器波纹管内壁镀铜膜工艺。将这一工艺应用于1.3 GHz高功率输入耦合器镀铜膜。结果表明,铜膜与耦合器内表面的结合力、高低温适应性和微波能量传输效率都能很好地满足实际应用的要求。