用随机单纯形法分析交流阻抗教据

本文提出了一种可以应用于由交流阻抗数据计算等效电路元件数值的数据拟合方法-随机单纯形法。这一方法能一次同时求解多个电路元件,对复杂的等效电路尤为有效,因此十分适合于有弥散效应时的数据处理。利用按随机单纯形法编制的软件,给出了计算实例,还分析了阻抗测量误差对拟合计算结果的影响。     

椭圆偏振法研究镍表面的钝化膜

用椭圆偏振法研究了镍在硼酸盐缓冲溶液中,于初始钝化处(-0.5V,SCE)、稳定钝化处(0.4V)和钝化/过钝化交界处(0.8V)恒电位阳极极化时所生成的钝化膜。分析了钝化膜的厚度、生长动力学规律、成份和生长机理。结果表明:钝化膜的厚度、成份和生长机理都与外加电位有关;在所研究的电位下,钝化膜都具有双层结构;膜生长都先生成外层膜,随后在其下面再生成一层内层膜;内层膜的生长都服从线性规律,外层膜的生长规律分别为线性规律、抛物线规律和对数规律。     

奥氏体不锈钢在高温磷酸浓溶液中的阳极极化行为

测量了奥氏体不锈钢９０４Ｌ在１４０℃、８５％磷酸溶液中的阳极极化曲线，讨论了不同电位区域内的阳极极化行为，并用交流阻抗法研究了不同电位区域内钝化膜的阻抗行为．在活化－钝化过渡区，阻抗谱的高频部分为容抗弧，在低频出现扩散控制现象．在稳定钝化区；阻抗谱由容抗半圆组成，受表面钝化膜的生长和溶解过程所控制．在该区域内，钝化膜的阻抗值达到最大，弥散系数和膜电容值达到最小，表明所生成的钝化膜的耐蚀性好，致密度高，膜较厚且表面均匀．在过钝化区，高频容抗弧的直径大为减小，说明由于过钝化溶解，膜的耐蚀性大大下降；低频出现两个感抗弧，说明出现了阴离子的吸附．阳极充电曲线和电位衰减曲线的结果表明在稳定钝化区内，膜的组织和成分应该是均匀的；钝化膜的生长电位越高，膜越稳定．综上结果表明奥氏体不锈钢在高温磷酸浓溶液中实施阳极保护具有保护电位范围宽（０．３～０．８Ｖ，ＳＣＥ），钝化膜稳定等优点．磷酸的温度越低，保护效果越明显．     

椭圆偏振法研究双层薄膜的形成

根据双层均质薄膜的两种不同生长模型,编写了处理双层膜的椭圆偏振参数的计算程序。用此计算程序对实验测出的椭偏数据△、ψ进行拟合计算,不但可以得到双层膜厚度和光学常数,而且还可以推测出双层膜的生长机制。文中列举了用该程序进行拟合计算的实例,分析了△、ψ的随机误差对拟合计算结果的影响,并对该程序的可靠性进行了验证。     

活化剂对Al-Cr扩散层中孔穴形成的影响

Ni衬底用粉末包装法先扩散Al再扩散Cr时,在Al-Cr扩散层内产生了孔穴。它形成的原因是:活化剂NH₄Cl加热分解时生成HCl气体,与已形成扩散层中的Al作用,使其从扩散层中逃逸,而在原来Al的位置上产生了孔穴。含有孔穴的Al-Cr扩散层的抗氧化能力明显降低。     

椭圆偏振法研究双相不锈钢的钝化膜

作者用椭圆偏振法结合交流阻抗法研究了耐海水腐蚀的双相不锈钢05Cr20Ni9Mc4Cu2Si3N在3.5％NaCl溶液中的钝化膜。结果表明:在自腐蚀及恒电位阳极极化(+0.2和+0.6V,vs.Ag/AgCl)条件下所生成的钝化膜都是双层的,但两者的生长机制不同。在自腐蚀状态下,内层吸收膜的折射率为2.5,主要由Fe_2O_3和Cr_2O_3组成;在恒电位下,内层膜是折射率约为1.2左右的吸附膜。两种条件下生成的外层膜,折射率都在1.7左右,主要由FeOOH,CrOOH或Cr(OH)_3组成,且可能具有非晶态结构。在恒电位下内、外层钝化膜的生长都服从对数规律。在自腐蚀状态下,内层膜的生长近似服从对数规律,外层膜的生长则不服从对数规律。     

用随机单纯形法分析交流阻抗数据

用随机单纯形法分析交流阻抗数据周庆初,徐乃欣,石声泰(中国科学院上海冶金研究所,上海200005)发表于《中国腐蚀与防护学报》,1989;9(4):289.获中国腐蚀与防护学会第三届全国青年腐蚀科技论文讲评会优秀奖周庆初,1963年6月出生,1982年毕业于浙江工学院机械系工业设备防腐蚀专业,获工学学士学位.1988年8月毕业于中国科学院上海冶金研究所金属腐蚀,磨损与防护专业,获工学博士学位.学位论文题目为”椭圆偏振法研究”相不锈钢和镍的....