排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1
1.
基于直流磁控溅射的基本原理,通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析,建立了磁控溅射系统的几何模型,推导出了膜厚分布的数学理论模型。借助MATLAB数学软件,计算了不同靶基距下膜厚分布的理论数据,分析了靶基距变化时膜厚分布的特点。实测了两种不同靶基距下膜厚的分布,通过与理论数据的对比,验证了模型的可靠性。理论模型与实测数据的分析表明:随着靶基距的逐渐增大,膜厚的变化率减缓,膜层的平均厚度降低,膜厚分布的均匀性提高;在靶基距一定的情况下,增宽靶材的刻蚀区域会提高膜层厚度及其均匀性;基板上的膜厚分布大致呈现从中心到边缘逐渐变薄的趋势,膜层最厚的位置随着靶基距的增大,从靶材刻蚀最深处在基板上的投影位置,逐渐向基板中心转移。 相似文献
2.
3.
采用Nd-Pr合金、工业硼铁、纯铁及海绵锆为原料,在不同的冷却速度下采用FMI-Ⅰ-600型真空速凝炉制备Re(Nd,Pr)FeB永磁合金铸带,分析了速凝薄带的厚度分布,采用扫描电子显微镜及能谱重点分析了铸锭的组织结构,从而确定了合理的冷却范围。本文在真空条件下加热1400~1450℃,氩气保护下在1.5~2.0m/s的冷却速度下获得的速凝薄片形成了完整的柱状晶,富稀土相均匀分散在主相周围,有效抑制α-Fe的生成。 相似文献
4.
5.
6.
7.
1