爆炸物销毁器气液两相射流的数值模拟分析

为优化装备设计,对爆炸物销毁器气液两相射流进行了实验研究。采用模拟方案对实验工况进行数值模拟,得到大涡模拟方法耦合二维非稳态隐式的VOF方法,可以对高速气液两相射流进行很好的描述,所得结果与实验结果吻合较好。对变运动参数和结果参数进行数值模拟,得到比较可靠的实验数据,对装备的优化设计有一定的促进作用。     

UHMWPE纤维的表面改性及其在网式阻车器中的应用

本文简要介绍了超高分子量聚乙烯(UHMWPE)纤维的性能,总结了超高分子量聚乙烯纤维等离子处理法、氧化处理法、电晕放电处理法、辐射引发表面接枝处理等多种表面处理方法,讨论了这些表面处理方法对纤维增强复合材料粘结性能和本体力学性能的影响,分析了这些方法的处理效果、处理工艺等对实现连续化、工业化可行性的影响,并介绍了由UHMWPE纤维为原料制成的特种纤维网片在网式阻车器这个反恐领域的特殊应用。     

金属基带的连续非接触式电化学抛光

目的研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法。方法采用以磷酸-硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件。结果优化的工艺条件如下:JA为1500~2500 A/m2,t为40~80℃,L为4~12 mm,v为0.5~1.8 m/min。在此工艺条件下进行电化学抛光,极为有效地降低了金属基带的表面粗糙度,光亮度达到镜面状态,原子力显微镜测试5μm×5μm范围内的表面平均粗糙度值低于1.0 nm。结论该抛光工艺实现了千米级基带的连续性抛光,达到工业化生产要求。     

新型ZrF_4-BaF_2-CdF_2-LaF_3氟化物玻璃的研制和性质

在光纤、精密光学、夜视、传感技术、特殊涂层、固体电解质和激光等领域中,氟化物玻璃有引人注目的应用前景。目前,氟化物玻璃的缺点之一,是析晶倾向较大.因此,如何降低氟化物玻璃的析晶倾向,一直是人们所关注的问题。本工作中,应用二个以上的二价阳离子,目的是提高玻璃的形成能力。本文介绍四个新的 ZrF_4-BaF_2-CdF_2(ZBC)和 ZrF_4-BaF_2-CdF_2-LaF_3(ZBCL)玻璃形成系统。并且,测定了玻璃的物理化学性质。     

C-276带材表面超声波清洗及水基清洗剂的研究

C-276合金带材因其优异的抗腐蚀性能被广泛用作第二代高温超导材料的金属基底,因此其表面清洗更加重要,而普通清洗剂残留较多,难以满足洗净率的要求,且传统的有机溶剂清洗剂还有易燃、有毒、价格高等缺点。为此,采用Ramis CIA清洁度检查系统优选常温、低毒、环保、安全、高效的水基清洗剂,采用正交试验优选清洗剂中各组分的最佳用量,确定了水基清洗剂的最佳组成并对清洗剂的性能进行检测。结果显示:最优水基清洗剂组成为3.5 g/L氢氧化钠,0.4 g/L辛基酚聚氧乙烯醚,5.0 g/L葡萄糖酸钠,0.3 g/L烷基聚氧乙烯硫酸酯盐,25.0g/L碳酸钠。该水基清洗剂为微黄色透明液体,在超声波条件下对C-276合金的清洗率可达100%。     

2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮的批量制备

以氢化钠为缩合剂,3,3-二甲基丁酮(PC)和二甲基丙酸甲酯(MP)为原料,制备2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮。小量制备最佳条件为:n(PC)∶n(MP)∶n(NaH)=1∶1.48∶3.0,酮滴加时间为4 h,回流时间6 h。在此基础上进行扩大化生产,并对生产条件进一步优化:n(PC)∶n(MP)∶n(NaH)=1∶1.48∶1.81,酮滴加为7 h,回流时间为14 h,产率达82.11%,高于文献报道的最高产率72%。     

哥尔本特石膏墙板结构体系

一、耐火与隔声的标准结构 1.声学特性根据传声等级标准(STC)和实验室测定,确定清水墙壁结构体系的隔声性能及楼板与顶棚的冲击噪声性能由冲击隔声等级确定。由于设计或工艺上的某些原因,清水墙壁结构体系在现场与实验室中的各种性能之间会出现一定的偏差。例如,由于侧向管道和空气渗漏等原因,将会引起隔声性能的降低。一般来说采用抗老化的、耐久的、有弹性     

哈氏合金C-276电抛光中抛光液的失效分析

目的哈氏合金C-276带材被广泛用作第二代高温超导体YBCO的金属衬底,其表面抛光质量(粗糙度Ra)要求极为严格。为了保证抛光质量就要有效控制电化学抛光液,对抛光液的变化及失效与否进行分析。方法以哈氏合金C-276带材为研究对象,采用非接触式电化学抛光方法,使用扫描电镜、原子力显微镜、金相显微镜、微波等离子体原子发射光谱仪等仪器设备,阐明了抛光液中H_3PO_4和H_2SO_4等主要成分的作用及工艺要求,并测定单位体积抛光液在一定时间内通过电量(Ah/L)后,H_3PO_4、H_2SO_4含量及Ni、Cr、Mo等金属离子浓度。结果当H_3PO_4、H_2SO_4含量分别在775~1013 g/L、318~451 g/L范围内,Ni、Cr、Mo三种金属离子质量浓度分别小于7.3、2.7、3.4 g/L时,C-276带材表面的粗糙度才能满足工艺要求Ra1 nm(5μm×5μm)。结论通过对电化学抛光液中的H_3PO_4、H_2SO_4、添加剂、金属离子浓度等有效控制,采用非接触式电化学抛光,实现了千米级哈氏合金第二代高温超导带材的连续生产,并且表面粗糙度Ra1 nm。