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本文采用非晶态Cu_(50)Ti_(50)B薄膜和纯Ni缓释层作复合中间层,较好地实现了si_3N_4与40Cr钢的扩散连接,连接时间和连接温度及缓释层厚度对接头的强度影响很大最佳连接工艺为:900℃·40min·30MPa,Ni缓释层的合适厚度为1mm接头的微观分析表明:缓释层与非晶态Cu_(50)Ti_(50)B之间存在着较强的物理冶金交互作用,导致非晶态中间层中的Ti的活度降低,并产生脆性金属间化合物,使接头强度下限Mo是较理想的阻挡层材料在非晶态Cu_(50)Ti_(50)B与Ni缓释层之间插入Mo层,能有效地抑制两者间的物理冶金交互作用,并缓解了接头的残余热应力,提高了接头的强度本文提出了陶瓷与金属扩散连接接头的新模式为:陶瓷/用于扩散反应的中间层/阻挡层/缓释层/金属。  相似文献   
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