全文获取类型
收费全文 | 139篇 |
免费 | 6篇 |
国内免费 | 6篇 |
专业分类
电工技术 | 10篇 |
综合类 | 7篇 |
化学工业 | 11篇 |
金属工艺 | 14篇 |
机械仪表 | 9篇 |
建筑科学 | 2篇 |
矿业工程 | 5篇 |
能源动力 | 2篇 |
轻工业 | 10篇 |
水利工程 | 4篇 |
石油天然气 | 10篇 |
无线电 | 15篇 |
一般工业技术 | 10篇 |
冶金工业 | 15篇 |
原子能技术 | 1篇 |
自动化技术 | 26篇 |
出版年
2022年 | 3篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 1篇 |
2018年 | 2篇 |
2016年 | 1篇 |
2014年 | 8篇 |
2013年 | 2篇 |
2012年 | 4篇 |
2011年 | 5篇 |
2010年 | 10篇 |
2009年 | 3篇 |
2008年 | 3篇 |
2007年 | 12篇 |
2006年 | 12篇 |
2005年 | 8篇 |
2004年 | 1篇 |
2003年 | 4篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 5篇 |
2000年 | 3篇 |
1999年 | 17篇 |
1998年 | 5篇 |
1997年 | 11篇 |
1996年 | 5篇 |
1995年 | 3篇 |
1994年 | 1篇 |
1993年 | 3篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 1篇 |
1989年 | 3篇 |
1988年 | 2篇 |
1986年 | 1篇 |
1981年 | 1篇 |
1958年 | 1篇 |
排序方式: 共有151条查询结果,搜索用时 0 毫秒
2.
DvD-RAM光盘可以像硬盘一样随时存储、删除资料,使用起来比普通光盘更方便,因此俗称“光硬盘”。现在新型DCD刻录机都普遍支持DvD-RAM,但一些前期上市的刻录机由于市场策略的原因并不支持DVD-RAM的读写。那么,我们能否对这些刻录机进行改造升级让它支持DVD-RAM呢?本文就以建兴160P6S刻录机为倒,和大家一起分享将其升级为支持DVD-RAM的165P6S的心得和经验。[编者按] 相似文献
3.
4.
用电弧熔炼法制备了LaY0.1Fe11.4T0.1Si1.5(T=Cr,Mn,Fe,Co,Ni)系列合金。室温XRD分析与SEM成分分析表明,该系列合金中除存在一个明显的杂相峰(富La相,P4/nmm)和α-Fe相外,主相为NaZn13型立方相。除T=Cr外,Fe位原子替代使合金的晶格常数随着替代原子T的原子半径的减小而减小。磁性测量表明,该系列合金除T=Mn以外,随着替代原子T的原子半径减小,合金的居里温度(TC)有增加的趋势。在外磁场变化ΔB=1.5T时,利用Maxwell方程计算得出,该系列合金磁熵变最大值分别为5.1,13.0,20.7,12.7和7.4J·kg-1·K-1。由此可以看出,T=Fe时合金的磁熵变最大值最大,且该系列合金的磁熵变峰值随着外磁场增加向高温区不对称展宽;TC以上磁场引起的变磁转变是磁熵变峰值不对称展宽的原因。 相似文献
5.
由于DVD+RW刻录光盘的擦写速度比DVD-RW稍快。因此使用者众多。不过笔者发现,在某些特定用途上DVD+RW刻录光盘存在不足之处。本文将为你展现DVD+RW/-RW刻录光盘在使用上的差异让你在两种光盘的使用上有的放矢。[编者按] 相似文献
6.
想要和家人、朋友分享你的摄影佳作吗,如何才能让大家看得津津有味呢?本文将告诉你如何制作家庭电子相册,让你更有面子![编者按] 相似文献
7.
用深能级瞬态谱(DLTS)研究退火及离子注入对分子束外延生长的GeSi/Si应变超晶格性质的影响,观察到3个与位错有关的深中心和1个表层内的深中心,退火和离子注入都使得这些深中心的浓度增加数倍,说明GeSi/Si应变超晶格不适应做过多的热处理.同时测定Pd+注入在GeSi/Si超晶格的杂质能级为EC=0.28eV,与体Si中的Pd杂质能级一致. 相似文献
8.
LaFe11.2Co0.7Si1.1Bx合金在室温区的大磁热效应 总被引:2,自引:0,他引:2
从室温磁制冷目的出发,用工业纯原料制备了具有NaZn13型结构的稀土铁基化合物LaFe11.2Co0.7Si1.1Bx(x=0,0.1,0.2,0.25,0.3,0.4,0.5),并对其磁热效应进行了研究.实验结果表明,LaFe11.2Co0.7Si1.1Bx合金在室温区具有大磁热效应,在x=0.2时,磁熵变|ΔSm|的峰值位于居里温度TC=270K处,1.5T外磁场下达到7.3J/kg·K,直接测量绝热温变ΔTad达到2.7K;B元素作为置换原子和间隙原子进入NaZn13相,显著提高了合金的磁熵变和居里温度. 相似文献
9.
带控制点化工工艺流程图CAD系统的开发 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍带控制点的化工工艺流程图CAD系统的开发及其实现过程;阐述该系统的技术特点、设计方案、使用方法、应用效果及重要意义;并给出该软件系统的部分界面。 相似文献
10.