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金属工艺
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1.
工作气压对磁控溅射Mo膜的影响
廖国
王冰
张玲
牛忠彩
张志娇
何智兵
杨晓峰
李俊
许华
陈太红
曾体贤
谌家军
《表面技术》
2011,40(6):82-84,93
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1~0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5~1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大;Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加;不同工作气压下制备的Mo膜为立方...
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