纳米硅薄膜界面结构的微观特征

对使用等离子体增强化学汽相沉积法（ＰＥＣＶＤ）制备的纳米硅薄膜（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ），使用ＨＲＥＭ及ＳＴＭ技术观测了其显微结构，给出大量的界面结构图象．首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况．使我们认识到ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的．     

TiAl型金属间化合物解理断口的纳米尺度研究

采用隧道扫描显微镜（ＳＴＭ）对Ｔｉ３Ａｌ及Ｔｉ－２４Ａｌ－１１Ｎｂ试样在空气中拉伸的解理断口进行了研究。结果表明，ＳＴＭ可以揭示出解理断口上存在许多纳米尺度的细节，如纳米尺度的微台阶、微孔洞（微韧窝）及空位等。