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1.
本文利用文献报道的LEC法GaAs晶体中的Si,B的红外LVM吸收光谱和SIMS分析数据,作出三条lg[Si]-lg[B]直线,其斜率分别接近于4/3,2/3,1/2.本文结合晶体生长的不同工艺条件试用熔体中Si与B_2O_3,H_2O间的相互作用,解释斜率的差异.  相似文献   
2.
本文利用文献报道的LEC法GaAs晶体中的Si,B的红外LVM吸收光谱和SIMS分析数据,作出三条lg[Si]-lg[B]直线,其斜率分别接近于4/3,2/3,1/2.本文结合晶体生长的不同工艺条件试用熔体中Si与B_2O_3,H_2O间的相互作用,解释斜率的差异.  相似文献   
3.
采用高压温度梯度冷凝法,由元素锢和红磷直接合成纯度磷化铟多晶。每次合成1小时,可得多晶300克。典型纯度磷化铟多晶的电学性质为: n_77K=3.79~15×10~15/cm~3 μ_77K=1·94~2.94×10~4cm~2/V·s 硅和硫是合成中引起沾污的主要杂质。化学分析表明:所得多晶组份接近化学配比,能满足用LEC法拉制各种掺杂或不掺杂磷化铟单晶的要求。  相似文献   
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