全文获取类型
收费全文 | 148篇 |
免费 | 4篇 |
国内免费 | 10篇 |
专业分类
综合类 | 1篇 |
金属工艺 | 5篇 |
机械仪表 | 12篇 |
无线电 | 128篇 |
一般工业技术 | 15篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2014年 | 1篇 |
2012年 | 1篇 |
2009年 | 11篇 |
2008年 | 11篇 |
2007年 | 6篇 |
2006年 | 18篇 |
2005年 | 20篇 |
2004年 | 12篇 |
2003年 | 1篇 |
2002年 | 3篇 |
2001年 | 12篇 |
2000年 | 8篇 |
1999年 | 6篇 |
1998年 | 2篇 |
1996年 | 8篇 |
1995年 | 1篇 |
1994年 | 7篇 |
1993年 | 3篇 |
1992年 | 6篇 |
1991年 | 2篇 |
1990年 | 3篇 |
1989年 | 6篇 |
1988年 | 3篇 |
1987年 | 3篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 3篇 |
1983年 | 1篇 |
1982年 | 2篇 |
1981年 | 1篇 |
排序方式: 共有162条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
采用离子束溅射沉积了不同厚度的Co膜和Cu膜,利用四电极法测量了薄膜的电阻率,从而得到了Co膜和Cu膜的电导率随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明,Co膜和Cu膜的电学特性都具有明显的尺寸效应。比较了同时考虑表面散射和晶界散射的电导理论得到的电导率公式与实验结果,不同薄膜厚度电导率的理论结果与实验结果符合较好。提出了厚度作为金属薄膜生长从不连续膜进入连续膜的一个特征判据,并利用原子力显微镜(AFM)观测了膜厚在特征厚度附近的Co膜和Cu膜的表面形貌。 相似文献
3.
薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
HfO2薄膜是用电子束蒸发方法制备的,利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力。对样品进行了XRD测试,讨论了膜厚对薄膜残余应力的影响。结果发现不同厚度HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随薄膜厚度的增加而减小,当薄膜厚度达到一定值后,应力值趋于稳定。从微观结构变化对实验结果进行了分析,发现微结构演变引起的本征应力变化是引起薄膜残余应力改变的主要因素。 相似文献
4.
通过对HfO2膜料中杂质元素的分析,找出了影响薄膜性能的主要杂质元素。结果表明:金属元素、吸收性介质元素的存在对薄膜的损毁有很大负面影响;在紫外波段,Zr元素含量大的薄膜吸收较大;并且提出负离子元素在膜料蒸发过程中形成气源中心,产生喷溅,从而使薄膜的损伤阈值降低。 相似文献
5.
概述了国内外关于~2μ波段发光的掺Tm^3+,THo^3+和Er^3+等激光晶体镀膜的使用情况,结合我们实验室已有的工作基础,对其设计原理和制备工艺进行了详细分析,制备出了较高性能2.94μm的激光薄膜。 相似文献
6.
7.
8.
三种不同后处理方式对ZrO2薄膜性能的影响 总被引:1,自引:1,他引:1
采用有氧热处理、激光预处理和离子后处理三种方式对电子束蒸发(EBE)制备的单层ZrO2薄膜进行了后处理,并分别对样品的光学性能和抗激光损伤阈值(LIDT)特性进行了研究.实验结果表明,热处理方式可以有效排除膜层内吸附的水气,弥补薄膜制备过程中的氧损失,使得光谱短移、吸收减小、损伤阈值增高;激光预处理过程可以在一定程度上减少缺陷、提高损伤阂值,但对膜层的光谱和吸收情况没有明显的改善作用;而离子后处理能够提高膜层的堆积密度、减少缺陷、降低吸收从而提高损伤阚值.由于三种方式处理机制不同,在实际应用中应根据膜层的性能选择合适的处理方式. 相似文献
9.
利用光热偏转技术对红外窗口材料进行了激光损伤实时研究,通过对硅片,加半反保护膜的硅片和加全反保护膜的硅片的损伤过程的研究,发现介质保护膜能大大提高硅窗口的激光损伤阈值,同时发现了全反介质保护膜的激光损伤逐层的破坏过程。 相似文献
10.