共溅射法制备Cu掺杂ZnO薄膜结构及性能的研究

采用直流与射频双靶共溅射的方法在玻璃衬底上制备Cu掺杂的ZnO薄膜,并研究了Cu的溅射功率以及氧分压对薄膜结构和光电性能的影响,利用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见光分光光度计(UV-VIS)以及霍尔测试仪(HALL8800)分别对样品的结构、光学特性以及电学特性进行表征,结果表明,薄膜的结晶质量随Cu溅射功率的增大有所提高,超过一定范围开始降低,而透过率则一直减小,增大氧分压可以改善样品的透过率。Cu的掺入使薄膜发生了由n型向p型的转变,且富氧条件下有利于这种转变。     

磁控溅射功率对掺铝氧化锌薄膜特性的影响

透明导电氧化物（TCO）薄膜因具有在可见光区透明和电阻率低等优异的光电性能,所以被广泛应用于各种光电器件中,例如平面液晶显示器（LCD）、太阳能电池、节能视窗等[1-2]。目前应用和研究最多的是掺锡（Sn）、     

缓冲层和退火气氛对Cu掺杂ZnO薄膜稀磁性的影响

采用直流与射频双靶共溅射的方法在石英衬底上制备Cu掺杂的ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔测试仪(HALL8800)以及超导量子干涉仪(SQUID)分别对样品的结构、表面形貌、电学特性和磁性进行表征,研究了AZO缓冲层以及不同气氛下退火处理对薄膜磁性的影响。结果表明,加入缓冲层的样品结晶质量有所改善,但不利于磁性的产生;空气退火使样品中氧空位大量减少,同时磁性减弱;真空退火使样品中氧空位得以保留,磁性增强,氧空位缺陷对磁性的产生有很大贡献。样品中载流子浓度不高,电阻率较大,载流子浓度对样品磁性的影响不明显。     

喂丝法球化处理工艺在铸造生产中的应用

就采用喂丝法在生产中如何解决诸如喂丝机的使用、包盖的改进、喂丝速度确定等问题进行了阐述。实践表明 ,只要具备设备、可操作工艺条件 ,用喂丝法进行球化处理具有生产环境改善、被处理铁液温降小、生产成本降低、铸件综合性能提高等优势     

瞬时孕育对铸件夹渣的影响

本厂在铁型覆砂铸造曲轴的生产中，采用瞬时孕育，由于孕育剂量的变化引起铸件成品率的变化。文中分析了瞬时孕育量对铸件夹渣的影响。介绍了保证铸件质量的工艺。     

喂丝法生产铸态超强球铁QT900—3的工艺研究

通过大量生产试验,利用喂丝法球化处理工艺生产出了铸态QT900-3牌号的超强球铁;生产实践表明,该法工艺先进效果好;进行了相关的理论分析。     

小粒度球化剂在生产中的应用

为了节约生产成本,通过我们的生产试验及生产实践,使用了3～8 mm粒度球化剂.与大粒度10～25 mm球化剂相比较,小粒度3～8mm球化剂的使用效果具有Mg、RE吸收率高,加入量少,成本低的特点.     

p型掺杂ZnO薄膜的研究进展

近年来,随着对ZnO的光电性质及其在光电领域应用的开发研究,制备可靠稳定的低阻p型ZnO薄膜成为研究热点之一。本文论述了p型ZnO薄膜制备的难点及其解决方法,综述了其最新研究进展,并对p型ZnO的研究进行了展望。     

覆砂金属型铸件表面粘砂问题初探

通过本厂曲轴车间在覆砂铁型铸造过程中出现的铸件表面严重粘砂的问题, 初步分析了产生粘砂的原因, 介绍了相应的解决办法其中控制铁型的温度, 使温度恒定是关键     

与库相互作用的非耦合的两比特系统的量子失协动力学

推导出一个关于 结构密度矩阵的量子失协的表达式。在单一激发下,给出两个非耦合的量子比特分别与库相互作用构成的系统的动力学的精确解,然后用非马尔科夫主方程方法精确求解了这个系统的耗散动力学。在失谐光谱密度下,讨论和比较不同耦合区域内系统的量子失协动力学特征。结果表明：量子失协表达式适用于任意有 型密度矩阵的物理系统,在失谐光谱密度下,证实两类主方程分别适用于不同的耦合区域。这将为以后更加简便地计算量子失协,以及在不同的耦合区域运用哪一类主方程提供一定的参考依据。