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关于真空激光减薄薄膜技术的研究 总被引：1，自引：1，他引：0
本文提出了一种新颖的可精确、快速、清洁的减薄薄膜的技术--真空激光减薄技术.即指利用激光器发出的脉冲激光束聚焦成直径很小的光斑,调节到适当的能量密度,对真空环境中的薄膜层进行高速扫描,从而减薄膜层.实验中,将此种技术对石英晶片表面膜层进行减薄.根据石英晶振谐振频率与其表面膜层厚度之间的反比关系,来间接测量激光对于石英晶振的膜厚减薄量.实验证实了真空激光减薄方法的可行性.膜层减薄厚度最小可达15.9 A,对应频率改变量为12 Hz,亦即频率改变量可达2 ppm以下.减薄速率可达到每秒1～2个石英晶振片. 相似文献
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为了解决电子系统塑料机盒的抗EMI问题,提出了一种采用多靶磁控溅射技术对塑料内表面进行金属化的新环保工艺,利用屏蔽效能对电磁兼容性作了理论分析,并对金属化层的膜系结构、溅射工艺、附着强度等作了较为深入的研究.研究结果表明:衰减损耗是各层屏蔽效果线性相加的结果;反射损耗与各层相对位置关系无关;层数多或各屏蔽层的反射越大,则屏蔽效果越好.试验表明:采用Cu/1Cr18Ni9Ti的金属屏蔽层结构,可以获得良好的屏蔽效能及耐候性,其中500nm Cu 100nm 1Cr18Ni9Ti较宜. 相似文献
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