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采用两种粒径的氧化铜粉末和粒径为1.5μm的三氧化钨粉末来制备高纯度的CuWO4粉末,分别通过控制CuWO4粉末在360和750℃两个阶段的氢气还原作用,制备出钨包覆铜纳米复合粉体。复合粉体的微观形貌,组织结构与颗粒尺寸采用扫描电子显微镜(SEM),X线衍射分析仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)进行测试,激光粒度测试仪(LPSA)用来测试CuWO4粉末的粒度。由小粒度CuWO4粉末制备出的钨包覆铜纳米复合粉体的钨包覆层厚度小,氢气还原制备的钨包覆铜复合粉体的平均粒径约50nm。 相似文献
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磁控溅射法制备W-Cu薄膜的研究 总被引:2,自引:2,他引:0
采用W70Cu30单靶磁控溅射与纯W、纯Cu双靶磁控共溅两种工艺,在多种基材上制备W-Cu薄膜,分析了薄膜的宏观形貌和组织结构.分析结果表明:单靶磁控溅射时,控制靶电压520 V,溅射电流0.8~1.2A,Ar气流量25 mL/min(标准状态),可在玻璃基体上镀得W-Cu薄膜,但退火时如温度过高,会使W和Cu两种元素原子偏聚加重;双靶磁控溅射时,控制Ar气流量20 mL/min(标准状态),Cu靶电流0.7A,W靶电流1.2A,溅射时间3600 s,可在硅基和玻璃基上镀得W-Cu薄膜,但在石墨基体、陶瓷基体及45钢基体上的镀膜效果不理想. 相似文献
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为了提高在高噪声条件下信息隐藏的可靠性,提出了一种将Walsh序列用于信息隐藏的嵌入算法,利用5-32Walsh序列的特性,以多位二进制信息为单位对嵌入二值图像进行扩频调制,然后将调制信号替换载体图像离散余弦变换域的低频系数.Walsh序列的应用使算法可以采用较长的扩频序列,从而提高了鲁棒性.实验表明,该算法在低信噪比的信道条件,具有较强的优势. 相似文献
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提出了一种化学去毛刺技术,去毛刺液的组成(质量分数)为70%磷酸+12%草酸+18%水,去毛刺时控制溶液温度在45~60℃、时间为10~45 min即可.运用体视显微镜、扫描电子显微镜、X-ray衍射仪和维氏硬度计等手段考察了此化学去毛刺技术处理有色金属制精密零件的效果,认为此化学去毛刺技术可以达到精度要求、技术要求和质量要求,不改变零件的性能,且具有一定的光亮作用. 相似文献
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民间工艺是中华文化的重要组成部分,应用传统民间工艺可以提高服装的视觉效果和市场竞争力。文章简要概述民间工艺的分类、特点,探讨传统刺绣工艺、剪纸工艺、云锦纺织工艺、染色工艺、印花工艺等民间工艺在服装设计中的应用及其效果,并结合具体案例进行分析,深入研究民间工艺在服装设计中的艺术性和民俗性价值,最后提出了将民间工艺中的图案、元素、色彩搭配和表现手法融入服装设计的应用策略。 相似文献
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