电压对TiAl合金含ZrO2微弧氧化膜生长特性的影响

目的在TiAl合金表面制备较厚的含ZrO_2相的微弧氧化膜层,并研究电压对微弧氧化膜层生长特性的影响。方法采用可溶性锆盐电解液体系,分别在480、500、520 V电压下对TiAl合金试样进行微弧氧化处理。分别采用涡流测厚仪、扫描电子显微镜和X射线衍射仪,检测膜层的厚度、微观形貌和物相组成。结果在480、500、520 V电压下制备的膜层厚度分别为18、28、48μm,电压小幅度的增加使膜层厚度大幅度增加。膜层的主晶相为t-ZrO_2,并含有m-ZrO_2、Al2O3和Ti O2相,随着电压的升高,m-ZrO_2相的含量略有增加。膜层表面有许多大小不一的类似于"火山口"的微孔和一些陶瓷颗粒,随着电压的升高,微孔孔径增加,膜层表面粗糙度增加。结论电压对膜层相组成的影响较小,对膜层微观形貌和厚度具有显著影响。较高电压有利于提高膜层的厚度,同时会增加膜层的粗糙度和表面微孔孔径。     

新型智慧城市标准化体系建设需求及内容研究——以福州市为例

新型智慧城市建设是推动中国未来经济社会高质量发展的重要举措,标准化是新型智慧城市建设和健康可持续发展的重要战略支撑。本文以福州市为例,深入剖析了新型智慧城市标准化体系建设的重大需求,提出从信息层、对象层、应用层三个层面开展新型智慧城市标准化顶层设计,并从信息化支撑技术标准、智慧基础设施标准、安全保障标准等8个方面系统阐述了新型智慧城市标准化体系建设的主要内容,以期为我国科学合理制定相关标准规范以及促进新型智慧城市发展提供新思路。