用喷雾燃烧法制备ITO纳米级粉末的研究

将金属铟和锡先配制成合金，然后使Ｉｎ－Ｓｎ合金熔体过热，通过气雾喷粉工艺，由高压预热氧气使熔体雾化成微细的金属雾滴，并随即在高温反应室中进行直接地氧化燃烧而生成ＩＴＯ纳米级复合的氧化物粉体，其粒度≤３０ｍｍ，制备１ｋｇ的纳米级金属氧化物粉末仅仅需要的５０ｓ，并且生产过程无任何污染。     

纳米In_2O_3的制备与结构表征

介绍了以同纯精铟为原料,采用化学沉淀法在一定的实验条件下制备纳米级In2O3粉体的实验过程,通过XRD、TEM、BET及化学分析等多种检测及分析手段对所制得的粉体的性能进行了初步表征,结果表明:采用化学沉淀法制备的In2O3为高纯单相类球形的黄色粉末,其平均粒径小于30nm。     

合金液雾燃烧过程中的反应速率与温度场

影响合金液雾燃烧工艺过程中氧化燃烧反应速率的关键因素是金属或者合金液雾滴径大小 ;液雾滴径越小 ,氧化燃烧反应速率越大 ,也越有利于金属或者合金液雾的完全氧化。燃烧室流场可分为内回流区、旋转射流区和外回流区 3大场区。液雾燃烧系统的温度场为一以燃烧“核心”为球心的等温球面 ,球面半径越大 ,温度越低 ,而至封围其雾化燃烧室的周壁处温度最低。     

离心雾化机理及提高离心雾化效率新技术

对离心雾化机理进行了较深入的分析。认为剪裂效应是熔体被雾化的根本原因。雾化与快凝的效果主要取决于圆盘的转速, 而传统的机械传动与支承的装置转速有限。一种新的水压传动与流体动压支承的雾化装置的转速每分钟可达数万转, 从而提高雾化与快凝技术的效果。     

制备金属氧化物纳米粉的液雾燃烧工艺研究

将金属熔融并过热到一定的温度，然后由高压纯氧将其雾化并立即于燃烧塔内进行直接氧化燃烧，可快速制得金属氧化物纳米粉体。应用该工艺不仅制备出了Ｂｉ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３粉末，同时对Ｓｎ－Ｉｎ合金熔体进行液雾燃烧时，获得复合的ＳｎＯ２／Ｉｎ２Ｏ３金属氧化物纳米粉体，粉末的最大粒径为２５ｎｍ，金属雾滴燃烧时的强烈挥发，高速飞行过程中的再雾化以及表面氧化膜的快速剥离是使得燃烧产物达到纳米级粉体的基本原     

影响雾化器工作效率的几个因素

从流体力学的原理出发，深入地分析了旋涡环缝式雾化器的工作特征，指出不合理的结构尺寸，内壁粗糙度偏高以及环缝的同心度得不到保证等因素都能影响到雾化器的工作效率，一件性能优良的雾化器，应当使流体雾化介质在流经雾化器时的能量损失较低，并能使雾化介质自环缝喷出时的线速度较高。     

快速制备纳米级金属氧化物的喷雾燃烧法

由高压纯氧借高效雾化燃烧器将金属熔体进行雾化，并立即于燃烧室中直接氧化燃烧，可快速制得纳米级金属氧化物陶瓷粉体。应用该工艺不仅制备出了Bi2O3.SnO2和In2O3陶瓷粉未，同时在将Sn-In合金熔体进行喷雾燃烧时，获得了复合的SnO2／In2O3金属氧化物纳米粉体，粉体的平均粒径为20nm。制备1kg的金属氧化物粉未，仅需45～48s即可完成。     

求周转轮系传动比的几何分析法

几何分析法就是将周转轮系中所有的运动关系都利用行星轮系原理,然后按几何关系迅速地求得各构件的转向及转速。此方法与速度图解法有相似之外,但也有不同之处,并不一     

熔体雾化－燃烧法制备高纯三氧化二铋超细粉

自行设计制造一套熔体雾化－燃烧装置，研究了熔体雾化－燃烧法制备高纯三氧化二铋超细粉的工艺，以精铋为原料，制备了粒度为１μｍ以下的高纯－氧化二铋超细粉。     

冷等静压-烧结法制备ITO磁控溅射靶材的工艺研究

采用冷等静压-烧结法制备了ITO磁控溅射靶材。该工艺用化学沉淀法制备ITO复合粉末,通过冷等静压(CIP)进行粉末压制,压坯的相对密度约为60%,将此压坯在1600℃下烧结6h,可得到相对密度>90%的ITO靶材。同时还通过实验考察了粉末粒度、烧结温度、烧结时间对靶材密度的影响,并对ITO靶材的烧结过程和烧结气氛进行了讨论。