单晶片离子注入机垂直扫描机构的差分密封设计

垂直扫描机构是单晶片离子注入机靶盘的支撑部件,起着将高速直线运动从靶室外传递到靶盘的作用.文中针对垂直扫描机构进行了差分密封的设计和计算,结果显示,此垂直扫描机构具有无摩擦、漏气率小的特点,因此它能满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求.     

电子束直接光刻设备概况及发展对策

本文扼要介绍了电子束直接光刻设备国外概况与国内现状，指出了国内在这一领域的主要差距，并为我国发展该设备提出了建议。     

亚微米电子束曝光机镜筒光路与结构

介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计，该电子光学系统采用透镜内偏转设计，系统象差小，偏转灵敏度高，工件面上电流密度大，通过调试和使用，电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。     

单晶片离子注入机垂直扫描机构差分密封的设计

对垂直扫描机构差分式密封进行了设计和计算.差分式密封是非接触动密封,垂直扫描机构中,轴和轴套之间有微小的间隙,轴套上有两级差分抽气室,通过微小的间隙和两级差分抽气室,密封气体被两级真空泵抽出.这种密封能实现无摩擦、性能好的密封,能最大程度满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求.     

’92半导体(美国)西部(SEMICON/WEST)展览及赴美考察简介

由中电总公司国际合作局许社全局长带队,华晶公司、华越公司、机电部一所、55所和48所等8人组成的CHINATRON代表团于1992年6月13日至28日参观了在旧金山MOSCONE展览中心的国际半导体设备、材料展览会。会后参观了HP、Applied Materials、Lam Research、Ultratech、VLSI、GCA、Eaton、AT&T、SVG、Drytek、Pioneer、Techlink、HT等14家公司。通过上述活动,了解到半导体设备、技术和集成电路的主要情况、前沿和发展趋势,以及寻求中电总公司与国际合作的意向。现将主要情况介绍如下: