基于电子束曝光的微区加热技术

提出了基于电子束曝光的微区加热技术.在研究样品吸收能量密度的基础上,在FEI820 Dual Beam FIB/SEM系统上对30 keV电子束曝光Pb、Bi、Sn、Al金属薄膜以及15 keV电子束曝光S1805正性抗蚀剂微结构时的微区加热效应进行了实验研究.结果表明,在一定的曝光剂量下样品表面出现了熔化现象,证明采用电子束曝光可以使某些材料微小区域表面达到相变温度或熔点以上,为使用电子束曝光技术完成某些材料的微纳区域表面热处理以及制备具有光滑曲面的微结构提供了新途径.     

电子束退火制备二硼化镁超导薄膜的可行性研究

提出了电子束退火制备MgB2超导薄膜新工艺。在对电子束退火制备MgB2超导薄膜可行性进行理论研究的基础上,使用EBW-6型电子束热处理设备,在真空度5.0×10-3Pa、加速电压40 kV、束流2mA、束斑14.2mm、退火时间1.5 s的条件下对[B(10 nm)/Mg(15 nm)]4/SiC夹层结构前驱膜进行了退火实验,得到了零电阻温度为30.3K、转变宽度ΔTc为0.4K、临界电流密度(5 K、0 T)为5.0×106A/cm2、表面平整的MgB2超导薄膜。证明了电子束退火制备MgB2薄膜是切实可行的。该工艺可以推广到大面积MgB2超导薄膜和MgB2线带材的制备。     

碱金属热电转换器（AMTEC）理论分析

从理论上分析了碱金属热电转换器的输出电压与电极电流密度之间的关系,最大电极功率密度与工作温度,电极电流密度和BASE面电阻之间的关系,电极效率与工作温度,电极电流密度和BASE面电阻之间的关系。     

基于PC104的嵌入式微拉伸台控制系统的研制

随着材料学研究的发展,需要一种在对材料进行微观检测时进行同步微操作的工具.本文设计了一套基于PC104的嵌入式微拉伸台控制系统,介绍了该系统的硬件组成以及软件编程.采用专用PID控制芯片实现电机的闭环控制,使拉伸台稳定地进行匀迷运动.为了实现系统控制的高精度,对数据采集、原位保持等关键技术进行了算法优化.小型化、模块化、低功耗、操作简单等特点,使得本系统只需进行简单地扩展就可广泛应用于数控领域.     

电子束投影曝光装置实验结果分析

主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点，针对在原理论证机上做的实验，着重分析讨论了聚光镜电流的大小对曝光结果的影响。     

电子束曝光制备光滑曲面微结构

提出了一种基于电子束曝光制备光滑曲面微结构的新技术。对聚合物玻璃转化温度与分子量之间的关系、分子量与电子束吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现聚合物玻璃转化温度随吸收能量密度的增加而减小。以此为依据,在FEI820Dual Beam FIB/SEM系统上采用15keV、不同剂量的电子束对S1805正性抗蚀剂微结构进行了曝光实验,得到了具有不同高度、轮廓清晰的光滑曲面微结构,为使用电子束曝光技术加工光滑曲面微结构提供了新工艺。     

动密封在真空锁中的设计与应用

详细介绍了在真空锁中的动密封设计过程,并就设计中出现的问题做了分析,提出了解决方案.     

离子束曝光技术

论述了离子束曝光技术的原理、特点，分析了其面临的关键技术问题，如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等，并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及取得的一些新结果。     

大范围高速原子力显微镜的前馈反馈混合控制方法

为了扩大原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)使用范围,研制了一套大范围高速AFM系统.针对大范围高速扫描时Z方向控制问题,提出了前馈反馈混合控制方法.前馈控制包括自动调平前馈和基于前一行扫描前馈,前者通过多线扫描确定样品倾斜位置,将所有扫描点的倾斜位移差用函数式表达,然后将其换算为Z向...     

高速大扫描范围原子力显微镜系统的设计

针对目前高速扫描型原子力显微镜(AFM)主要是限于物检测且扫描速度和扫描范围均有待提高,提出了一种高速原子力显微镜结构设计方案。在压电陶瓷致动器驱动的柔性铰链结构式位移台的基础上,构建了AFM大范围扫描器,使原子力显微镜在x-y扫描方向的运动范围达到了100μm×100μm。通过傅里叶频谱分析,计算获得了AFM扫描器常用的三角波驱动信号和正弦波驱动信号的高次谐波特性及其对AFM高速扫描成像的影响程度。为了消除在扫描运动过程中的机械自激振荡,提出了将正弦波信号作为高速扫描的驱动信号,行扫速度达到50line/s。在正弦波驱动的基础上提出了一种基于位置采样的图像获取方法,有效地减小了AFM扫描器的非线性误差造成的图像畸变现象。