低能电子束辅助蒸镀的初步实验

自从六十年代中期用断面电子显微术揭示了薄膜的微结构以来,薄膜的各种特性,光学的,磁学的,电学的,超导的,机械的,以及各种薄膜现象,包括薄膜的稳定性,追根溯源,便找到了说明的根由和改进的出发点。一种自然的趋势,是用某种物理手段来影响薄膜的成核、成长过程,改变薄膜的结构,从而使薄膜具有某些预期的特性。     

任意折射率的均匀混合膜的获得——实用气相混合蒸镀技术之一

自然界拥有数不清的物质,然而能提供给薄膜工作者使用的材料却很寥寥.目前常用的膜料只不过二、三十种,折射率值的匮乏常使膜系设计人员感到困惑.为了弥补这个缺陷,人们做过不少尝试.     

激光薄膜偏振片:单色偏振膜设计

本文提出一种独特的求解平板型偏振膜系工作点的计算方法。利用三层对称组合膜的特性,解一个或两个超越方程,便确定膜系各层的厚度。如此膜系对预定波长的P光,透射率为100%,对S光的反射率可按需要程度逼近100%。这种方法的特点是,精度高,概念清晰,能够求解任何两种高低折射率薄膜组合,能够设计各种波长的偏振片。根据这种设计方法,用电子计算机计算了一系列由常用膜料组成的偏振片,给出了计算结果。     

各向同性介质反射镜理论

本文从理论上指出研制能满足“各向同性”条件的介质反射镜的可能性。这种反射镜由二元和三元膜系组成。膜层折射率的数值,原则上是现实的。膜系的层数,按一般镀制工艺也是可以实现的。研究了选用偶数层或奇数层的二元膜系基片对制作各向同性反射镜的影响。     

一些氧化物和氟化物薄膜材料的折射率

用光谱反射率计测量了下列光学薄膜材料在250～2000毫微米波段的折射率;Ta2O5、HfO2、Y2O3、La2Os、ZrO2、CeO2、CeF3、LaF3,NdF3、MgF2。     

访西德扎记(下)

在PMA3的基础上,L-H公司为A700Q装备了"过程光电光度计"(process photometer)OMS2000,使薄膜的蒸镀过程进一步程序化.在每一层膜蒸镀之前都需预先调整设备参数,例如放大倍数,膜层的预定厚度,波长等等,可以用手进行调节,也可以通过遥控系统自动输入.用微型计算机对待镀膜系预先进行计算,以便确定在每一层膜开始蒸镀之前设备参数应该调节到怎样的数值,并将数据自动输入OMS2000.     

国产薄膜材料硒化锌(ZnSe)的近红外特性

对上海冶炼厂制备的新材料硒化锌(ZnSe),研究了它在近红外区(0.6～1.1微米)的光学特性。实验指出,ZnSe薄膜在这个波段内的折射率高于2.5。同时对ZnSe的蒸镀工艺进行了初步实验摸索。     

变折射率膜层的获得——实用气相混合蒸镀技术之二

引方在使用两个蒸发源对膜料进行气相混合蒸镀的过程中,如果使两种膜料的淀积速率之比随时间的增加而不断地变化,则可以得到折射率随膜层厚度变化的非均匀混合膜层,具有变折射率的非均匀混合膜层,为薄膜光学开辟了一个新的领域,它在一定程度上使传统的膜系设计得到翻新,它的独特性能对薄膜的发展有着重要意义.