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讲述了参观Semicon/west94′展览会及考察美国和西德的5个公司、1所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。 相似文献
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新的一代光刻设备朝着两个方向发展 ,一是趋向于大数值孔径、短波长 ;另一方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0 .1 5微米线宽的软 X射线投影光刻技术 ,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。软 X射线光刻及其应用研究是目前国际上非常活跃的高技术领域。把软 X射线光刻列为重要发展项目。本文摘要综述德国、美国、日本、俄罗斯等国近年来在软 X射线光刻关键单元技术及整机研究和发展方面的概况、预计下世纪初美国和日本将有软 X射线投影光刻机投入工艺生产线 相似文献
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本文介绍了JK—1半自动接近接触式光刻机显微物镜的结构,以及对该显微物镜高精度对心的方法,装置、精度分析和实测结果。实测结果表明,这种对心方法能满足显微物镜的高分辩率,象质好的要求,并已达到理论设计水平。此种高精度对心方法同样能适应大数值孔径,高分辨率,更高精度显微物镜的装配和校正。 相似文献