高纯硼烷中杂质的低温气相色谱分析

用低温色谱法解决硼烷的分解问题，使硼烷中氢的分析成为可能，该法又能消除硼烷和四硼烷（B4H10)对氧、氮和甲烷峰测定的干扰，此方法的建立使硼烷的标准制定成为可能。     

硅外延反应器中氢与石墨热化学反应的研究

在氢气中,石墨在高温下不是一种化学稳定的物质.本文叙述在开管系统条件下,用气相色谱分析的方法对硅外延系统中氢与石墨的热化学反应产物作了检测.实验结果表明,在1050～1250℃外延温度范围内可明显地观察到甲烷、乙炔、乙稀等碳氢化合物,它们在H_2中浓度有的可达几十ppm~*.在整个外延生长过程中,特别是在生长起始阶段,这些反应产物有可能对H_2带来沾污,并对外延晶体完整性产生一定影响.文中也报道了石墨基座在不同涂层材料如硅、碳化硅等包涂条件下,氢与石墨反应产物相应减少的结果.     

简讯

中国科学院半导体研究所于1984年已研制成一种能脱除各种惰性气体和特气中O_2、H_2O杂质的净化剂。脱O_2深度最低到<0.03ppm;脱H_2O深度<-80℃。经多次实验证明,这种净化剂能用于HCl、PH_3、AsH_3、NH_3中脱除O_2和H_2O,适用于MOCVD工艺的气体净化。该净化剂必将在电子工业和科研中得到广泛应用。     

低浓度乙硼烷成分的气相色谱分析

气相色谱法的火焰光度检测器对于低浓度乙硼烷具有很高的灵敏度,最小检测量为5×10-6(进样量1 mL)。     

硅烷的分析

在大规模集成电路和非晶硅研制中，常常要对硅烷的纯度及其组分进行分析。有关硅烷分析的文章国内、外公开报道的不多。现有文献以苏联的居多，其次是日本和美国。1975年B．T．Peзчиков等报道了用光谱法测定硅烷中的总碳。     

半导体工业对特种气体的要求

特种气体在国防、化工、电子、冶金、能源等现代科研部门和国民经济的一些领域中有着广泛的用途。尤其是对于电子部门中的半导体领域，这类气体更显得重要。从半导体材料、半导体器件、集成电路的制造到半导体材料、器件的理论物理的研究都离不开各类特种气体。也就是说，如果没有合格的高纯、超纯气体和各种组成的混合气体就制造不出成品率高的集成电路，也就没有电子计算机。     

站台门门控单元远程在线程序升级技术设计与实现

站台门门控单元是站台门系统的重要组成部分，该文采用CAN总线的在线升级技术，通过把F1ash升级控制程序搬移到RAM中运行，利用F1ash281x＿API函数库烧写应用程序的方法，实现对门控单元程序的升级。另外，在线升级不影响原有程序的运行，不需预先固化底层程序，可对所有程序代码段重新编成，解决了站台门门控单元在线系统升级换代的问题。同时，在线程序升级技术在调试阶段对门控单元参数的修改等起到至关重要的作用。     

油气企业人本管理综合评价指标体系的构建

人本管理是提高企业核心竞争力的重要手段,对企业人本管理进行综合评价有利于企业合理判断这一管理活动实施的合理性和效果的优劣性,为人本管理优化提供一定的科学依据。为此,在分析油气企业人本管理要素的基础上．按照科学的原理和步骤,从基础、过程和效果要素3个方面建立了由31个指标构成的指标体系,并对各个指标进行了解析。认为油气企业人本管理综合评价既是多角度、多指标的评价,又是从过程到结果的评价,是一项系统工程。     

硅烷系废气的高效处理方法

将从半导体制造设备排出的台有硅烷系气体的废气通过以固体金属氧化物为主要成分的填料层，高效率地除去该硅烷系气体，至少使浓度降低到0．5ppm以下。     

GI型特气净化剂研制

为了对特种气体进行净化,我们于1984年开展了GI型净化剂的研制。经过几年的努力,已研制成一种能用于永久性气体和特种气体的以镓为主要原料的净化剂,其脱氧深度对于8ppm的氢气可脱到0.03ppm,其脱水可由375ppm(露点-30℃)脱到0.54ppm(露点-80℃)。一、仪器与实验装置采用SIGMA型气相色谱仪、玻璃露点仪与二次仪表(数字式毫伏计)、ZAV-2型黄磷发光微氧仪。实验流程如图1所示。