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1 前言
世界表面处理技术的发展过程(见图1).
2 磁控溅射离子镀
2.1 磁控溅射离子镀
磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子镀过程的优点(能改变膜基界面的结合形式,提高膜基附着力,膜层组织致密等)结合在一起,形成了一种新的镀膜技术. 相似文献
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1前言世界表面处理技术的发展过程(见图1)。电弧离子镀真空蒸发镀磁控溅射离子镀磁控溅射等离子体激光热处渗氮/渗电镀化学气相沉热喷涂物理气相沉积图12磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子 相似文献
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