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利用射频磁控溅射技术分别在单面抛光Si(001),Al2O3(0001)和硬质合金(WC-8 wt.%Co)基底表面沉积HfMoNbZrNx薄膜,研究不同氮气流量RN对HfMoNbZrNx薄膜的组织和性能影响。结果表明,HfMoNbZr薄膜倾向于形成非晶态,随着RN的增加,HfMoNbZrN高熵合金氮化薄膜转变为面心立方(FCC)结构并且沉积速率下降;当RN=10%时,薄膜硬度和弹性模量最大,分别为21.8GPa±0.88GPa和293.5GPa±9.56GPa;所有薄膜均发生磨粒磨损,相较于多元合金薄膜,氮化物薄膜的磨损率下降了一个数量级,薄膜耐磨性显著提高。 相似文献
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