高深宽比SU-8微结构的简易加工技术

为了提高微驱动器的性能,提出了一种在氧化铟锡(ITO)玻璃上加工高深宽比SU-8微结构的方法.在导电玻璃的ITO层上涂覆一薄层AZ-4620正光胶,用常规的接触式曝光法,将光刻掩模上的二维图形转移到AZ-4620光胶层上,显影后利用ITO玻璃的导电性,在AZ-4620光胶曝光处电沉积镍,原掩膜图形可保真地转移到ITO玻璃表面的镍镀层上,使紫外光透过ITO玻璃基底进行反面曝光,从而保证了光刻掩模与SU-8光胶层间的完全接触,消除了厚光胶层表面不平在曝光时的散射和基片材料的反射影响,成功制备了深宽比为16、侧壁垂直度为89.5°的微结构.本方法使用设备简单,加工成本低.     

《振兴东北科学仪器基地高层专家研讨会》 就振兴东北科学仪器基地给中央有关部委的建议

为落实党中央关于改造、振兴东北老工业基地的战略部署,充分发挥吉林省科学仪器行业优势在振兴东北老工业基地总体战略中提升行业国际竞争力、培养四类人才和拉动区域经济中的作用,中国分析测试协会、中国分析仪器学会、吉林省科技厅和吉林大学决定联合发起在长春市举办"振兴东北科学仪器基地高层专家研讨会"。会议于2003年9月21￣22日在吉林大学东荣会议中心举行,有9位中国科学院和中国工程院院士及近70名科学仪器各领域高层专家以及国家相关部门领导出席。会上陆婉珍院士、方肇伦院士、汪尔康院士、王大珩院士(长春理工大学姜会林校长代表)做了专题报告,各位院士和许多专家都就如何结合东北的人才和区域环境优势,加快形成东北科学仪器基地的产业集群特色、东北科学仪器的发展方向、近期目标和任务、东北科学仪器基地的发展机制和发展模式、如何创造更适应科学仪器发展的环境和条件以及需要采取的更切实可行的措施等问题进行广泛而深入的研讨,并形成了许多共识,最后提出了两项重要而内容广泛的建议。现将大会的有关发言及建仪摘登於后,以飨读者。     

《振兴东北科学仪器基地高层专家研讨会》对吉林省发展科学仪器的建议

为落实党中央关于改造、振兴东北老工业基地的战略部署,充分发挥吉林省科学仪器行业优势在振兴东北老工业基地总体战略中提升行业国际竞争力、培养四类人才和拉动区域经济中的作用,中国分析测试协会、中国分析仪器学会、吉林省科技厅和吉林大学决定联合发起在长春市举办"振兴东北科学仪器基地高层专家研讨会"。会议于2003年9月21￣22日在吉林大学东荣会议中心举行,有9位中国科学院和中国工程院院士及近70名科学仪器各领域高层专家以及国家相关部门领导出席。会上陆婉珍院士、方肇伦院士、汪尔康院士、王大珩院士(长春理工大学姜会林校长代表)做了专题报告,各位院士和许多专家都就如何结合东北的人才和区域环境优势,加快形成东北科学仪器基地的产业集群特色、东北科学仪器的发展方向、近期目标和任务、东北科学仪器基地的发展机制和发展模式、如何创造更适应科学仪器发展的环境和条件以及需要采取的更切实可行的措施等问题进行广泛而深入的研讨,并形成了许多共识,最后提出了两项重要而内容广泛的建议。现将大会的有关发言及建仪摘登於后,以飨读者。     

论自主创新发展我国的科学仪器事业 "振兴东北科学仪器高层专家研讨会"上的大会报告

各位专家，各位来宾。首先感谢给我这个机会参加讨论会，有机会跟大家交流，有机会发表自己的看法。     

关于在我国发展微全分析系统的建议

发展我国分析仪器的难得历史机遇微全分析系统 (ＭｉｃｒｏＴｏｔａｌＡｎａｌｙｓｉｓＳｙｓｔｅｍｓ,μ -ＴＡＳ)是一个跨学科的新领域 ,其目标是借助微机电加工(ＭＥＭＳ)技术与生物技术实现化学分析系统从试样处理到检测的整体微型化、集成化与便携化。它已成为目前分析仪器发展的重要方向与前沿。当前许多发达国家已把现代科学仪器当做信息社会的源头和基础纳入其未来发展的战略重点 ,而分析仪器又是其中最重要的组成部分之一。最近 ,人类基因组计划的提前完成充分说明了先进的分析仪器与技术在现代高科技发展中的重要甚至关键作用。面…     

微流控芯片发展与展望

介绍了微控分析系统的一般特点,发展历史和近期的研究进展,分别讨论了微流控分析系统中有关流控系统,芯片材料,检测系统,集成化系统,分离系统,试样引入和前处理系统等研究领域的发展趋势,并对微流控分析系统的应用前景做出了展望。     

重力驱动小型滴汞泵的研究

提出了一种以重力为驱动力的小型滴汞泵,该泵主要由2个结构相同的储汞腔、一段8crn长的毛细管（200μmi．d．）和连接管三部分组成．分析了滴汞泵的工作原理;讨论了滴汞泵的设计思路和影响泵性能的各种因素,包括汞液位差、滴汞毛细管内径和长度、负载流阻、储汞腔水平截面积等;测试了滴汞泵的流速、泵压等性能参数．该泵体积小,无能耗,无需机械活动部件,可通过倾斜泵体方便地调节流速,通过上下翻转泵体可实现滴汞泵反复长期使用．连续工作4h,流速在1．09～1．34μL／min之间,平均流速1．22μL／min,流速精度RSD为4．0％,测得泵压为4．5kPa．     

微流控芯片发展与展望

介绍了微流控分析系统的一般特点、发展历史和近期的研究进展.分别讨论了微流控分析系统中有关流控系统、芯片材料、检测系统、集成化系统、分离系统、试样引入和前处理系统等研究领域的发展趋势,并对微流控分析系统的应用前景做出了展望.     

微流控芯片硅阳模的加工

研究了单晶硅阳模的制作工艺。考察了光刻胶前烘和后烘的温度、刻蚀剂浓度、组成及刻蚀温度等因素对单晶硅阳模质量的影响。得出了单晶硅阳模制作的最佳条件，用AZA620光刻胶转移图形及二氧化硅为硅片刻蚀的牺牲层，前烘温度为90℃，后烘温度为120℃，刻蚀温度为60℃；刻蚀液组成为氢氧化钾23．4％，异丙醇14．9％，水61．7％。在该条件下制作的单晶硅阳模表面光亮，通道侧壁较光滑。用热压法可快速地将此阳模上的微通道复制于聚碳酸酯基片上，每片约需时5min。已成功地复制了200多片。