“神光-Ⅲ”主机装置的自适应光学波前校正系统

本文介绍了为“神光-Ⅲ”主机装置研制的五十套工程化自适应光学系统,包括系统技术方案,基于可拆卸技术的大口径变形镜和具有自动对准功能的哈特曼波前传感器两主要部件的性能,测量并分析了波前特性,系统校正结果表明：自适应光学系统改善了主机装置的光束质量,满足10倍衍射极限范围内激光能量大于95%的指标要求,确保“神光-Ⅲ”主机装置激光在主放大系统内的传输顺畅。

     

反击锤式破碎机的优化设计

本文研究反击锤式破碎机的优化设计，提出以力、能量、锤头稳定性，几何条件、不发生运动干涉、转子轴和滚动轴承的强度等为约束条件，以破碎能量利用率为目标的优化设计数学模型。给出的计算实例表明了新机型有更优的设计质量和更高的使用效率。     

自适应光学技术在惯性约束聚变领域应用的新进展

在惯性约束聚变(ICF)领域,采用自适应光学(AO)技术进行波前控制是解决ICF激光系统中光束质量问题的重要手段.报道了"神光Ⅲ"原型装置中8套工程化自适应光学系统、未来ICF系统发展所需的大口径可拆卸变形镜(DM)样镜研制以及ICF自适应光学波前控制技术的最新研究进展.8套工程化自适应光学系统在"神光Ⅲ"原型装置上实现了到靶点的全系统静态像差校正,改善了靶点焦斑能量分布,验证了校正对打靶时X射线分布的改善效果.所研制的17单元大口径可拆卸变形镜的口径为284 mm×284 mm,行程大于±6μm,谐振频率大于500 Hz.在ICF自适应光学波前控制技术中,采用了基于哈特曼传感器近场相位测量的控制方法和基于靶室远场的随机并行梯度下降(SPGD)控制方法均能取得良好的校正性能.     

我国惯性约束聚变领域中的波前控制技术

在惯性约束聚变(ICF)高功率激光装置中,自适应光学波前控制技术是确保装置安全顺畅通光以及光束质量达标的关键技术之一。本文介绍了我国ICF激光装置中波前控制技术从概念的提出到大规模应用的研究和发展历程,重点介绍了在装置不同发展阶段针对装置的需求所研究和发展的关键系统技术,包括基于远场焦斑优化的爬山法波前控制技术、基于双波前传感器数据融合的全装置波前控制技术,以及旋转腔激光装置结构中基于双变形镜的全系统波前控制技术,并介绍了相关技术在装置上的应用结果。

     

微机控制混砂系统的设计与研究(1)

介绍了以MCS-51系列单片机为微处理器的微机控制混砂系统的设计原理。分析了该系统的基本原理、单片机控制系统的硬、软件设计、抗干扰措施。机械部分的设计、关键参数的确定。同时给出了具体的实施途径,有效地解决了配料精度和良品率问题。     

六维宏微位移可控精密工作台的研制

研制了一种六维宏微位移可控精密工作台。设计中采用粗精分离的原则,有利于提高工作台的精度,并减小了研制难度。宏位移使用精密燕尾导轨结构。微定位系统使用了压电陶瓷驱动器、柔性铰链和计算机控制,使系统具有极高精度的补偿定位能力。该工作台可在 100mm 范围内运动,平移分辨力为 0.05μm,转动分辨力为 0.3″。     

一种新型并联XYY微定位平台动力学建模及控制仿真

介绍了一种新型的压电陶瓷驱动的并联XYY结构微定位平台。该平台通过Y方向两个压电驱动器的实时校正,能够避免因加工装配误差引起的结构非对称性对平台运动直线度的影响。推导了微定位平台的动力学模型。通过引入过程噪声的数学模型增广LQG控制器,实现了微定位平台解耦和跟踪,仿真发现这种方法能够有效抑制窄带随机扰动,提高定位精度。     

微机控制混砂系统的设计与研究(2)

介绍了以MCS-51系列单片机为微处理器的微机控制混砂系统的设计原理。分析了该系统的基本原理、单片机控制系统的硬、软件设计、抗干扰措施。机械部分的设计、关键参数的确定。同时给出了具体的实施途径,有效地解决了配料精度和良品率问题。     

高效超细破碎机设计与CAD系统的开发

介绍了破碎机CAD系统的设计思想,总体方案功能模块和技术实现的方法和手段。     

反击锤式破碎机CAD系统的开发

降低产品成本,提高产品市场竞争力,是当今制造业界主要的奋斗目标。而降低产品设计成本,提高产品设计水平是提高产品综合竞争力的关键所在。本文对反击锤式破碎机的设计及计算机辅助设计软件系统进行了研究,实现了从破碎机的工程设计到装配图、零件图图纸输出的计算机辅助自动完成。