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1.
紫外ICCD的线性测量 总被引:1,自引:1,他引:0
以辐射度学为理论基础,研究了紫外ICCD(UV-ICCD)的线性测量技术,提出了比较测量方法.参考探测器的光纤端面和UV-ICCD的光敏面置于同一截面内,首先使用线性参考探测器测量辐照度的衰减变化,然后将被测UV-ICCD置于辐照度场中心,记录不同辐照度下UV-ICCD的输出.最后,直线拟合给出UV-ICCD的灰度输出与输入辐照度关系曲线.参考探测器线性度的好坏直接决定线性测量的精度.为此,采用了非线性度不高于0.2%的科研级光谱仪.测量装置主要由标准氘灯、光学衰减器,积分球、参考探测器、电移台和计算机等组成,测量过程由计算机配套专用软件进行自动控制.实验结果表明,所测UV-ICCD的非线性度不高于3%,比较法测量的不确定度小于5%. 相似文献
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3.
以玻璃为衬底,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法,在360℃附近实现ZnO薄膜的生长.利用ZnO为有源层制备底栅型薄膜晶体管.SiO2 被用作栅绝缘材料以有效的抑制漏泄电流的产生,达到氧化锌薄膜晶体管 (ZnO-TFT) 成功运作目的.ZnO-TFT 的电流开关(on/off)比达到104以上.ZnO-TFT 在可见光区平均光透过率大约为80%.以上表明利用ZnO 替代传统 Si 材料作有源层材料制备透明薄膜晶体管是可能的. 相似文献
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5.
曹健林 《中国制造业信息化》2009,(8)
大规模集成电路制造装备及成套工艺重大专项领导小组紧紧围绕党中央国务院有关要求,以科学发展观统领,把科技带动产业良性发展,推动产业综合实 相似文献
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9.
浮法抛光原理装置及初步实验 总被引:1,自引:2,他引:1
浮法抛光是当前超光滑表面高效加工技术之一。本文介绍了浮法抛光原理装置及初步实验结果。利用这项技术对φ30的K9玻璃样片进行实验,经过2~4小时的抛光后,表面粗糙度值优于1nmRa. 相似文献
10.
紫外ICCD辐射定标的研究 总被引:3,自引:2,他引:1
国内至今尚未见有紫外增强型CCD(UV-ICCD)探测器定标的相关研究报道,为保证紫外测量数值结果的准确性和电力电晕探测等应用提供直接的技术支持,有必要对UV-ICCD的辐射定标技术进行研究,以建立输入辐照度和探测器数字化输出之间的响应特性。推导了辐射定标的原理,并对UV-ICCD探测器进行了基于标准氘灯的辐射定标,标准光源由美国国家标准和技术研究所(NIST)标定,其不确定度为5%。实验标定了在固定积分时间和MCP增益情况下UV-ICCD探测器的响应以及UV-ICCD探测器响应与MCP增益之间的关系。初步的定标数据显示,UV-ICCD探测器的响应是线性的,MCP增益与输出的图像平均灰度值成正比。最后,对影响定标结果的不确定度进行分析,分析结果表明辐射定标的最大误差约为7.94%,满足精度要求。 相似文献