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本试验研究了新型黄腐酸环保肥料在樱桃番茄上的冲施效果。采用单因素随机区组试验设计,共设六个处理:300mg/mL、120mg/mL、75mg/mL、54mg/mL、43mg/mL、0mg/mL(对照)。试验结果表明,冲施新型黄腐酸环保肥料后,樱桃番茄品质明显改善,产量显著增加。75mg/mL效果最好,120mg/mL次之。在改善果实品质方面,75mg/mL提高可溶性固形物、可溶性总糖、可溶性蛋白、果实干重方面均达显著水平;其中,可溶性固形物、可溶性总糖的提高达极显著水平。在提高产量方面,75mg/mL效果最好,达极显著水平,与对照相比,提高28.34%。另外,75mg/mL处理在改善光合作用能力方面,显著增加叶面积并显著提高叶绿素含量,为植株健壮生长奠定了基础。 相似文献
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在激光装置实验中,通过小孔成像原理可获取黑腔靶中发射的X光图像的时间积分。提出一种3倍放大的新型成像设备用于集束实验,通过在与靶轴线夹角30°方向安装带多层镜选能的成像设备从而获取低能和高能段的X光时间积分图像,观察腔壁的再辐射现象。开展了用于集束实验针孔相机的研制工作,包括光路设计与结构设计,通过离线进行测试,在线实验进行打靶考核。进行成像光路仿真,模拟计算了两种镜子的选能效果,并通过光路仿真得到了多层镜、滤片和谱分布对成像结果的影响。采用FLASH对实验辐射场分布进行仿真,作为成像仿真的输入。最后,将此设备获取的成像结果与仿真计算得到的结果进行比较,实验结果与仿真结果基本一致,得到了X光信号强度的分布情况,获取了理想的实验数据,加深了对内部物理现象的理解。由此,建立了针孔成像的仿真能力,能够对成像结果进行预判,指导针孔相机的设计。 相似文献
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介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm3,沉积速率为0.058 nm/s。 相似文献
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最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响 总被引:3,自引:3,他引:0
选用能制备小周期的钨/硅(W/S i)作为膜层材料对,着重研究最小膜层厚度对X射线非周期多层膜光学性能的影响。基于矩阵法计算多层膜反射率和单纯形数值优化方法,设计了入射光子能量为8.0keV,掠入射角的宽度分别为0.85°~1.10°,1.40°~1.70°的X射线超反射镜。结合实际实验制备技术,考虑了W/S i两种膜层材料的最小成膜厚度,确定了膜堆中最小膜层厚度为0.5nm~1.0nm。通过改变最小膜层厚度的值,优化设计了上述条件下的非周期多层膜并对其光学性能进行比较。结果表明:同一个工作波长下,随着多层膜工作角度(掠入射)的增加,膜堆中膜层的厚度减小,最小膜层厚度对其光学性能的影响增加,其光学性能变差。 相似文献
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全绿豆芽混浊汁的工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了全绿豆芽混浊汁的生产工艺。结果表明:绿豆芽培养至72-84h,芽长3-5cm,芽径1.7-2.0mm时,全豆芽中维生素C的含量达到最高点,同时口感和外观均上于最佳状态。采用胶体磨磨2次,添加0.3%的复合稳定剂Ⅱ,可以保持全绿豆芽混沌汁在贮存期内不发生分层及沉淀现象。 相似文献
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氮气反应溅射制备软X射线Co/Ti多层膜 总被引:1,自引:0,他引:1
针对"水窗"波段(280~540eV)对多层膜反射镜的应用需求,在Ti的L吸收边(452.5eV)附近,优化设计了Co/Ti多层膜的膜系结构。计算了不同界面粗糙度条件下的反射率,结果显示,界面粗糙度对多层膜反射率有较大影响。采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制备了Co/Ti多层膜,通过将氮气引入原有的溅射气体氩气中作为反应气体,明显减小了制备的多层膜的界面粗糙度。利用X射线掠入射反射实验和透射电子显微镜测试了多层膜结构,并在北京同步辐射装置(BSRF)3W1B实验站测量了不同氮气浓度下多层膜的反射率。结果显示,氮气含量为5%的溅射气体制备的多层膜样品反射率最高,即将纯氩气溅射制备得到的反射率9.5%提高到了12.0%。得到的结果表明,将氮气加入反应溅射气体可以有效改善Co/Ti多层膜的性能。 相似文献
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采用直流磁控溅射技术制备了周期厚度为27.5nm的W/Si多层膜,使用实时应力测量装置对其应力特性进行了研究。为降低膜层应力,采用W、Si共溅射技术制备WxSi1-x膜层替换W膜层,制备出WxSi1-x/Si多层膜,与W/Si多层膜的应力特性进行了比较研究。结果表明,W/Si多层膜为较大的压应力,测量值为-476.86 MPa,WxSi1-x/Si周期多层膜为较小的压应力,测量值为-102.84MPa。因此采用共溅射制备WxSi1-x代替W可以显著改善多层膜的应力特性。 相似文献
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