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在目标探测识别系统中,采用多通道滤光片可以提高目标与背景的信噪比,从而实现对目标信号的精准探测。基于纳米压印的阵列结构多通道滤光片制造技术,对滤光片间隔层硬模具的表面精度和结构精度具有较高的要求。根据多光谱滤光片的设计结果,基于单点金刚石车床,采用快刀伺服加工方式,实现多通道滤光片间隔层模具的高精度制造。并采用白光干涉检测技术,对模具的表面形貌进行了检测。通过分析表明,对5×5阵列结构的多通道滤光片,其加工结果与设计值吻合良好,横向尺寸精度与纵向尺寸精度均优于5%,完全满足设计要求。该技术为多通道滤光片的大规模、批量化制造提供了技术支持,同时也为非周期阵列光学元件的制造提供一种有效的手段。 相似文献
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用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了碳氮膜(CNx),膜层厚度约80 nm.采用Ar/N2等离子体溅射纯石墨靶,研究了基片偏压对CNx膜机械特性和微观结构的影响,详细分析了基片偏压对CNx膜性能影响的机理.实验结果表明,当基片偏压为 30 V时,CNx膜层性能良好,硬度约为31.48 Gpa,摩擦系数约为0.14,磨损率为6.75×10-15m3/m,系数x接近于4/3. 相似文献
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类金刚石薄膜的折射率研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用脉冲真空电弧镀方法在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜折射率和工艺参数以及折射率与薄膜本征硬度的关系,结果表明:无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5~2.7之间;不同的工艺参数可以得到不同折射率的薄膜;通过改变工艺条件来制备不同折射率的薄膜,和不同的基底材料的折射率匹配,使其有一定的机械强度。 相似文献
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介绍了嵌入式微处理器S3C2410X及其相关显示模块TFT_LCD,包括S3C2410X与LCD的接口电路、LCD控制器及其特殊功能寄存器部分。详细分析了如何利用ARM9的LCD控制器进行LCD的驱动设计。在此基础上,将其与μC/GUI图形用户界面整合在一起,形成一个小巧实用的嵌入式软件开发平台。 相似文献
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随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标。然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄膜具有各异的微观结构,从而具有不同的抗激光损伤特性。本文采用脉冲真空电弧(PVAD)和非平衡磁控溅射(UBMS)技术沉积了DLC膜,对两种DLC膜抗激光损伤特性进行了研究,测试结果表明,两种技术沉积的DLC薄膜激光损伤阈值分别0.6 J/cm2和0.3 J/cm2,PVAD技术比UBMS技术沉积的DLC薄膜具有更高的抗激光损伤阈值。基于实验研究了薄膜光学常数和表面形态,分析了两种技术制备DLC膜激光损伤特性差异的主要原因。结果表明,采用UBMS技术沉积的DLC膜具有较小的折射率和较大的消光系数,薄膜表面存在较多的疵病和缺陷,这些是其激光损伤阈值较低的主要原因。 相似文献
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伴随我国互联网技术的不断发展及成熟,我国各水电厂及电力企业都逐步采用互联网及电气自动化技术进行电气控制,且正朝着分布式控制系统的方向不断发展。水电厂中的电气控制系统能够对其进行监视及控制,采用分布式的计算机控制系统,是一种经济有效的方式,且具有较高的可靠性。文章根据电气自动化的控制方式分析了水电厂中进行电气控制其监控系统的组态模式以及所具备的功能。 相似文献
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激光损伤的光散射法判别研究 总被引:1,自引:1,他引:0
在激光损伤测量系统中,利用光散射法判别激光薄膜损伤,需要寻求光源和探测器之间的最佳位置。为此,在不同损伤激光脉冲能量、不同测量入射角度(0°,30°,45°,60°)和不同探测器距离(200,250 mm)条件下,研究了损伤点散射光能量的角分布。获得结果如下:在相同的探测角度上,散射光能量随着损伤面积和测试光入射角度增加而增加。在探测角度小于反射角度时,随着探测角度增加散射光能量逐渐变强;当探测角度大于反射角度后,随着散射角度增加散射光能量逐渐变弱。散射光相对能量在反射光方向附近出现极大值;在60°入射时,散射光相对能量具有最大值;探测距离在200 mm时,最大散射光相对能量大于探测距离在250 mm时。根据以上结论,可以确定在利用光散射判别损伤的测量系统中,探测器应放置在反射光方向的两侧,并且尽量增加测试光入射角度和缩小探测器与样片间距离。 相似文献