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现代的光亮镀镍工艺,不仅要求镀层全光亮、高整平,还要求有很高的出光速度。所谓出光速度,指镀液在很短的时间内使镀层达到很高光泽度的能力,即是说,在一定粗糙表面或较低光泽度的基体表面上,用一定的工艺条件电镀数分钟后所能达到的光泽度值。本文采用赫尔槽试片,电镀10分钟,每隔2分钟在一定的电流密度位置上测量镀层的光泽度。用这个方法研究镀镍电解液中某些添加剂,包括光亮剂、整平剂对镀层光泽度的影响。确定电沉积层光泽度的主要因素。1960年,威尔(R.Weil)就用测量光泽度的 相似文献
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