空心阴极放电离子镀技术及工艺参数的确定

为了在较宽的真空条件下,以高的离化率实施离子镀膜,并将金属气化和金属电离二者结合起来,等离子体电子束提供了最为有利的条件。1972年,J.R.Morey和H.R.Smith等人最先把这种技术应用到离子镀膜中,取名空心阴极放电离子镀,又叫HCD法。还为离子     

全新的镀膜技术—离子镀膜

电镀在现代工业生产中,获得了广泛的应用。但是它本身还存在不少弊病,如析氢、在非导体工件上不能一次直接镀成、有毒、有废液、对环境有污染等问题。这些弱点,随着电镀技术的发展,虽得到了一定程度的改善,但还没有彻底的解决。科学技术的进一步发展,原来的电镀工艺已不能适应现代科学技术对材料以及工件表面处理的技     

离子镀技术

在真空条件下,应用气体放电技术实现的镀膜——离子镀技术,在国外工业生产中已得到了广泛地应用,国内对这项技术也进行了研究并且在设备和工艺上都取得了成果。离于镀膜技术自1963年出现以来,由于这项技术可以在金属零件、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上,涂覆一层具有不同性能的单一镀层、化合物甚至合金镀层,只要采取不同的工艺参数,就能获得     

一种新型的电子枪 中空热阴极放电等离子体电子束装置

中空热阴极放电等离子体电子束装置(以下简称空心枪),它具有工作真空度低(10~(-3)～10~(-1)托)工作电压低(<100伏),电流大,且易调节、结构简单、操作方便,价格便宜等显著特点,因此,它在真空冶炼,真空热处理以及真空离子镀膜等领域内,获得了广泛的应用。     

离子镀膜在工业生产中的应用

离子镀膜技术是在真空蒸发和真空溅射的基础上发展起来的全新镀膜技术.它始于原子能工业中对铀防腐蚀、防污染的研究,并以无公害而优越于电镀.因此,它一出现就受到了人们的重视.离子镀膜技术,经历了单一镀层、复合镀层、化合物镀层以及合金镀层的发展阶段.在当代的表面淀积、表面处理技术中,不仅可以获得优越于电镀以及其它表面淀积技术所获得的镀层,而且开创了一些淀积镀层不用它就无法获得的新的领域.它经过十年之久的萌芽发展阶段,现在不仅在理论上、技术上,而且在工艺和设备     

在陶瓷基片上离子镀铜及工艺实验

本文从离子镀技术的基本原理出发,用普通真空镀膜机设计,改装成离子镀设备。为了实现对非导体陶瓷基片进行离子镀膜,根据非导体本身不可能传送自由电子的特性,设计了法拉第网和对基片烘烤。经过100多次工艺实验,终于在陶瓷基片上获得附着力2Kg/mm~2的离子镀铜膜并总结出工艺参数。