椭球反射镜膜厚均匀性

本文分析了椭球反射镜膜层厚度均匀性对反射率的影响,从理论上得到膜厚计算公式。根据计算的膜厚分布设计了遮蔽板,获得较好的反射特性。     

碳酸二苯酯的合成工艺新进展

碳酸二苯酯是合成聚碳酸酯的重要原料,具有广泛的用途和应用前景.其合成方法主要有酯交换法、尿素法和二硫化碳法等.本文介绍了国内外碳酸二苯酯的现有生产技术及合成路线,综述了国内外的最新进展,并对今后的发展趋势作了展望.     

离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验

介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结果优于 1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术。     

光学薄膜消偏振技术及进展

光线倾斜入射时,膜层不可避免地会产生偏振效应。对于大部分实际应用,此现象带来的是系统性能的劣变,必须予以消除或减少。光学薄膜的消偏振是一个非常棘手的薄膜设计问题,目前仍然缺乏一种普遍适用的一般性方法。许多论文曾致力于这一问题的研究,文章较全面地叙述了这一领域研究过程中所提出的方法,包括单波长和宽波段的消偏振技术研究的现状和进展。这些方法可以在一定条件一定程度上取得比较好的消偏振效果,具有比较重要的理论意义。     

End-Hall与APS离子源辅助沉积制备的薄膜特性

利用离子束辅助沉积(IAD)技术制备了单层HfO2薄膜,离子源分别为End-Hall与APS离子源。采用Lambda900分光光度计、可变角光谱椭圆偏振仪(V-VASE)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、ZYGO干涉仪和激光量热计测试了薄膜的透射光谱、光学常数、晶体结构、表面形貌和吸收(1064nm)。实验结果表明,薄膜特性与辅助离子源及起始膜料有着密切的关系。End-Hall离子源辅助沉积制备的薄膜出现轻微的折射率不均匀性。两种离子源辅助沉积制备的薄膜折射率均较高,吸收损耗小,薄膜均为单斜晶相。不同离子源辅助沉积条件下,利用金属Hf为起始膜料制备的薄膜表面平整度较好,其均方根粗糙度和总积分散射均相对较小。与End-Hall离子源相比,APS离子源辅助沉积制备的薄膜吸收相对较小。     

多孔细HPETFDY环吹风冷却改造及生产工艺探讨

根据本厂的设备状况,提出环吹风改造的方法。试验利用环吹风设备生产PETFDY多孔细旦138dtex／192f规格产品,讨论了环吹风设备开发细旦丝的工艺条件。通过工艺试验认为利用环吹风技术生产FDY多孔细旦丝是可行的,与常规设备生产常规品种相比,工艺条件需要做适当调整。     

ZnSe衬底表面亚波长增透结构的设计及误差分析

以矢量严格耦合波(RCWA)理论为基础,通过遗传算法优化设计了圆柱形ZnSe亚波长微增透结构,获得了具有较好增透效果的结构参数;重点讨论分析了实际加工过程中圆柱形方向偏差及整体面形轮廓偏差对抗反射特性的影响;还对多台阶ZeSe增透性能随高度的变化进行了分析。结果表明:当圆柱形微结构周期为3.3μm,高度为1.7517μm,占空比为0.7566时,在8~14μm波段范围具有较好的整体增透效果;占空比偏差,高度偏差及圆柱体面形轮廓偏差对结构的平均透射性能都具有较大的影响;圆锥形ZnSe微结构的透射性能随着高度和划分层数的增加呈现一定的规律分布,且相比圆柱形最优微结构,平均透射性能有了较大幅度的提高。     

磁光盘信噪比的改善

本文分析了磁光盘系统的噪声,综述了提高信噪比的几种方法。     

高能激光光学系统偏振分析

本文详细地论述了反射式激光光学系统偏振态变化的起因。并得到几个重要结论。     

自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计

利用射频离子源RF—2001控制器USERINTERFACE接口具有遥控开关控制的功能,采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC—7325E,通过光电传感器对靶转动定位、行星转动系统的监控,在国产IBSD—1000型离子束溅射镀膜系统上,首次成功地实现了单、双离子束溅射沉积镀膜过程的自动化控制。控制软件采用VB编程,程序控制界面直观、易于操作。