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根据1980年以来国内硬质涂层工艺和设备发展的情况,与国外同类技术发展的进程作了对比,就涂层材料、工艺方法、设备性能和推广应用的环节等四个方面进行评述。 相似文献
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根据1980年以来国内硬质涂层工艺和设备发展的情况,与国外同类技术发展的进程作了对比,就涂层材料.工艺方法,设备性能和推广应用的环节等四个为面进行评迎。 相似文献
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本文用分布参数电路理论对干法刻蚀(PE/RIE)机中从射频电源到反应真空室的功率传送电路进行了分析。用双口网络的分析方法推导出求解L型匹配网中可变电容C_P、C_M在负载Z_L下最佳匹配值C_P、C_M的计算公式。由于当反射功率P_(ref)等于零时射频放电光电信号V_L达到最大,通过测量一定负载条件下V_L与C_P、C_M的关系,提出了采用自寻优的控制策略实现自动匹配的新方法。这种方法比传统的鉴相鉴幅法自动匹配器电路简单、控制范围宽、稳定性好,有利于半导体干法刻蚀新工艺的开发和研究。自寻优匹配器由硬件和软件相结合的方法构成。硬件以8031单片微机为中心,软件采用改进的座标轮换成功失败法。经实际运行,稳定可靠,满足干法刻蚀工艺的要求。 相似文献
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