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1.
本文设计了基于ARM核的32位微处理芯片S3C44B0X的陀螺仪测控系统,采用μClinux操作系统,完成了对陀螺仪各项参数的测量、传输、显示、修改和故障报警等功能,实现了对陀螺仪的监测和控制。  相似文献   
2.
球面间隙大范围测量的建模与线性化研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
有源静电悬浮轴承通过检测电极与转子间构成的球面间隙电容以得到转子位移。在转子起支时,要能实现球面间隙的大范围线性测量,本文重点推导了球面电容与球面间隙的非线性关系,提出了采用软件非线性校正的方法实现球面间隙大规范测量的线性化,使转子位移的线性测量范围可以达到标称间隙的66%,满足了静电轴承起支过程的要求。  相似文献   
3.
任意槽形光栅衍射特性的矢量理论分析与计算   总被引:9,自引:4,他引:5  
根据麦克斯韦基本方程组,推导了描述任意槽形光栅衍射特性的矢量理论分析方法——严格的耦合波方法,该方法可用来分析具有任意面型函数光栅在TE,TM两种偏振模式的平面波入射下的光栅衍射特性.文中讨论了偏振状态及光栅结构参数对几种典型槽形光栅衍射场的影响.  相似文献   
4.
旋转变压器转角及幅值的微机测量系统   总被引:1,自引:0,他引:1  
旋转变压器的转角及幅值测量系统采用嵌入式微机,通过整形电路、鉴相电路和脉冲填充法计算出定 子和转子相位角,利用采样保持器、A/D转换器测量出幅值的大小,实现对角度和幅值的实时测量与显示.  相似文献   
5.
研磨轨迹的均匀性决定球体的质量.应用图形坐标变换的方法,建立了四轴球体研磨机的轨迹数学解析方程,轨迹方程由24个方程组成.借助Matlab软件对研磨轨迹进行了模拟,轨迹模拟结果为包络整个球面.提出了用均匀度评价轨迹均匀性,均匀度与时间呈线性关系.为实际研磨的工艺参数选择提供重要理论依据.  相似文献   
6.
本文介绍CXG—1型磁悬浮转子真空计(简称磁悬规)用于真空标准比对的方法与结果。比对共进行两组,一组是中国计量科学研究院的静态膨胀系统与标准压缩计装置;另一组是吉林省计量检定测试所和中国计量科学研究院的两台标准压缩计装置。结果表明:CXG—1型磁悬规工作可靠、性能稳定。在1.3×10~(-3)~1.3Pa压力范围内,进行真空量值的比对得到了较满意的结果。  相似文献   
7.
在各种机械的生产过程中,机械的稳固性和安全性是十分重要的.但是,很多结构比较复杂的机械或者电子产品往往不能通过一次性生产的方式进行获得,这就使得机械再生产的过程中需要拆分为许多个零件和结构,并在之后进行拼装和组成,在这个过程中紧固件的作用就是十分显著的.虽然各种机械的稳定性都有可能对人体的安全造成不同层次的影响,但是本文认为交通工具的机械性能的稳定性是机械制作当中对于群众安全影响面较广的一个方面,再加上航空事业中所用到的飞机是一种组件非常复杂的大型机构,这就进一步使得紧固件在其制造的过程中具有非同一般的作用.因此本文对紧固件在航空事业中的应用、存在的问题及其解决方法进行了简要的分析.  相似文献   
8.
基于ARM7的嵌入式系统中频率数据获取与共享   总被引:2,自引:0,他引:2  
嵌入式控制系统在执行复杂测量与控制任务的同时,常需要测量外部信号的频率。为了保证处理器能够及时完成其他任务,又不影响频率的测量,该文提出了一种使用CPLD测量频率,通过总线读写方式与处理器上的专用进程交换数据的办法,并讨论了其它进程共享频率数据的方法。  相似文献   
9.
磁悬浮高速转子真空计的试验   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文介绍我们研制的磁悬浮真空计初步试验结果。简述该计的组成与利用数字频率计测量压强的方法。给出与中国计量科学研究院真空室的薄膜真空计对比,与DL-2型热阴极电离计对比及密封管静态压强测量稳定性的试验结果。试验的结果表明: ①多次对比的试验有较好的重复性。②在1×10~(-2)~1×10~(-3)托压强范围内,磁悬规与薄膜真空计的读数基本一致,相对偏差小于1%。磁悬规压强测量线性上限为1×10~(-2)托。③在1×10~(-3)~1×10~(-5)托压强范围内,DL-2型热阴极电离计与磁悬规的读数的相对偏差在 5%~-10%之间。在6×10~(-4)托压强附近,三天内多次对比的重复性较好。两个规的压强读数比值的相对标准差为1.3×10~(-2)。④密封管内静态压强的测量,平均压强P=2.555×10~(-3)托时,相对标准差为4.3×10~(-3);平均压强P=6.479×10~(-5)。托时,相对标准差为1.1×10~(-2)。  相似文献   
10.
从建立四轴球体研磨机弹簧加压球体研磨的力学模型入手,运用高点切削作用机制和误差均匀化效应,解释了球体圆度误差趋小化研磨机理。根据四研具对球面研磨的包络原理,提出了未包络研磨区是产生残存圆度误差的主要因素,并探讨了未包络研磨区、四研具初始压力误差、研具磨损不均匀性产生的原因和对研磨残存圆度误差的影响及解决措施。为进一步改善研磨工艺和提高球体研磨圆度提供了参考。  相似文献   
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