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化学镀铜新工艺及其在电子工业中的应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了一种国内最新的化学镀铜工艺原理、镀液成分、 配方和操作条件等,叙述了该工艺镀铜层的组成、表面形态及其在电子工业中的应用。  相似文献   
2.
化学镀铜新工艺及其在电子工业中的应用   总被引:5,自引:1,他引:5  
白拴堂  王玉娉 《表面技术》2000,29(6):41-42,46
介绍了一种国内最新的化学镀铜工艺的原理、镀液的成分、配方和操作条件等,叙述了该工艺镀铜层的组成、表面形态及其在电子工业中的应用。  相似文献   
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