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介绍了利用离子辅助在ZnSe基底上沉积YbF3和ZnSe制作反可见、中红外、透10.6
μm高能激光分色镜的理论和工艺方法.采用红外优秀的镀膜材料YbF3替代传统的有放射性红外镀膜材料ThF4用于制作反可见、中红外、透10.6μm高能激光分色镜取得了较好的效果.同时所研制的分色镜在透射率、反射率,吸收等光学性质,应力硬度牢固度等力学性质,和抗高能激光损伤阈值等方面进行了一系列的测试,基本达到理想的指标. 相似文献
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利用磁控溅射方法以CH4和Ar的混合放电气体溅射单晶Ge靶制备碳化锗(Ge1-xCx)薄膜,通过XPS、Raman和Nanoindentation等表征手段系统地研究了射频功率和衬底温度对所获薄膜成分、键合结构及力学性质的影响。研究发现:射频功率和衬底温度的增加均能提高膜中的Ge含量,这分别归因于Ge溅射产额的增加以及含碳基团在衬底上脱附作用的增强。Ge含量的增加促进了sp2C-C键转变为sp3Ge-C键,进而显著提高了膜中sp3杂化碳原子的相对含量并改善了Ge1-xCx薄膜的硬度。这些结果表明:提高射频功率和衬底温度是制备富含sp3C的硬质碳化锗薄膜的有效途径。 相似文献
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