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采用非平衡磁控溅射沉积技术制备纯MoS2和不同Ti掺杂量的MoS2-Ti复合薄膜。用SEM和XRD对薄膜的形貌和结构进行分析,用纳米划痕仪测试薄膜与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机评价薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能。研究结果表明:在溅射沉积MoS2薄膜过程中掺杂金属Ti,有效地阻断了MoS2疏松、多孔柱状晶的优势生长,从而生成组织结构致密、无定形态的薄膜,提高了其与基底间的附着力。掺Ti复合薄膜在大气和真空环境中的摩擦学性能都得到显著改善,真空环境中10%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的37倍,大气环境中20%Ti含量的薄膜耐磨寿命最长,是纯MoS2膜的67倍。 相似文献
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Tb0.3Dy0.7(Fe1-xAlx)1.95合金的结构、磁致伸缩性能和自旋重取向研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文系统研究了室温下Tb0.3Dy0.7(Fe1-xAlx)1.95(x=0,0.05,0.1,0.15,0.2,0.25,0.3,0.35)合金中金属Al替代Fe对晶体结构、磁致伸缩、内禀磁致伸缩、各向异性和自旋重取向的影响.结果发现,x<0.4时,Tb0.3Dy0.7(Fe1-xAlx)1.95完全保持MgCl2立方Laves相结构,晶格常数a随Al含量x的增加而增大.磁致伸缩测量发现,随着替代量x的增多磁致伸缩减小,x>0.15时超磁致伸缩效应消失;x<0.15时磁致伸缩在低场下(H≤40kA/m)有小幅增加,高场下迅速减小,而且易趋于饱和,说明添加少量Al有助于减小磁晶各向异性.内禀磁致伸缩λ111随[111]替代量x的增加大幅度降低.穆斯堡尔效应表明,Tb0.3Dy0.7(Fe1-xAlx)1.95合金的易磁化方向随成份和温度在{110}面逐渐偏离了立方晶体的主对称轴,即自旋重取向.室温下,当x=0.15时,Tb0.3Dy0.7(Fe1-xAlx)1.95合金中出现了少量非磁性相;x>0.15时,合金完全呈顺磁性. 相似文献
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介绍了新型台式变频履带牵引机的结构设计、工作负载转矩计算及拖动系统设计。该牵引机具有结构简单、台式安装、低速机械特性较硬、牵引力大等显著特点。实验证明:设计计算合理、工作平稳可靠,是理想的缓凝预应力筋包覆设备的牵引装置,在一定范围内适用其它管(线)材的牵引,具有推广价值。 相似文献
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CoO纳米颗粒的制备及磁性研究 总被引:9,自引:0,他引:9
用聚乙烯醇溶胶-凝胶法制备出氧化钴(CoO)纳米颗粒。分析了胶体浓度、热处理温度和时间对制备CoO纳米颗粒工艺的影响。用X射线衍射仪和透射电子显微镜对样品的形貌、结构和物相进行了测试,用振动样品磁强计初步探讨了CoO纳米颗粒在室温下的磁性。结果发现胶体浓度为2:1时有利于形成CoO纳米颗粒,在氢气环境下对干胶进行煅烧时生成CoO纳米颗粒的温度范围在225~350℃之间。CoO纳米颗粒的结构为NaCl结构。在较低温度下烧结干胶时发现颗粒尺寸随着热处理时间的增加变化不大。用此方法制备的CoO纳米颗粒直径最小约为12nm。在室温下表现为类似于超顺磁性的特征。 相似文献
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金锡合金焊料由于其良好的性能逐渐成为一种可能替代锡铅焊料的无铅焊料,并且利用电子束辐照的焊接方式,一维金锡纳米线已经成功用于TiO_2纳米线的焊接,这为钛基半导体氧化物纳米材料的焊接提供了实验经验。然而,金锡焊料在电子束焊接时的熔化机制和动态过程的研究还很贫乏。在本文中,我们通过电化学沉积的方法制备了一维Au85 Sn15合金纳米焊料,并详细地研究了在透射电镜中的电子束辐照下,其形貌,晶体结构,化学元素分布的演化过程,并进一步探究了电子束辐照熔化纳米焊料的机理。研究发现,在电子束辐照下,一维Au85 Sn15合金纳米焊料的形貌由线状熔化为液滴状;其晶体结构由AuSn和Au_5 Sn为主,少量Au,β-Sn,SnO_2的混合相转化为单一的Au_5 Sn相;其化学元素在电子束辐照下发生质量损失,该过程既有物理相变又有化学相变。在电子束辐照传递的能量作用下,原子的流动或扩散迁移和重新排列是形成新的结合层的动力学机制。该工作不仅为应用纳米焊料进行电子束焊接提供了实验依据,而且为电子束辐照熔化金锡纳米合金纳米焊料的内在机制的研究提供了宝贵经验。 相似文献
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采用双脉冲电化学沉积法,以多孔阳极氧化铝(AAO)为模板制备了NiCu/Cu多层纳米线。利用透射电子显微术研究其微/纳结构和成分。研究结果表明,单根NiCu/Cu纳米线尺寸均匀,平均直径为53 nm,系多晶面心立方(fcc)结构。STEM模式下EDS线扫描和EDS面分布显示多层纳米线呈现NiCu和Cu交替排列组成的多层结构,其NiCu层和Cu层的平均沉积速率分别为5 nm/s和2 nm/s。化学组分测量测定NiCu层原子比为Ni∶Cu=51∶49,Cu层为纯铜。并通过NiCu合金和Cu纳米线元素测定分析、验证了Ni和Cu的含量比例关系。利用HRTEM和CBED深入表征分析了非磁性层尺度小于10 nm的NiCu/Cu纳米线的磁性层、非磁性层和过渡层结构。 相似文献