FCVA沉积TiAlN薄膜的工艺研究

采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,在高速钢(HSS)基体上沉积TiAlN薄膜,用显微硬度计测定TiAlN薄膜的硬度和厚度,用X射线衍射(XRD)分析技术进行TiAlN薄膜的相分析并进行了摩擦磨损实验,为在刀具表面沉积TiAlN薄膜打下较好的工艺基础。     

一种基于EN 50126和某《车辆安全指南》的轨道车辆风险分析

当前,各行各业都十分注重产品的安全性,在轨道交通行业更是如此。基于EN 50126《轨道交通可靠性、可用性、可维修性和安全性(RAMS)的规范和验证》和某《车辆安全指南》的轨道车辆风险分析,介绍了一种系统的风险分析方法及流程,通过该风险分析可尽早地识别、评估可能存在的风险,并根据可能导致的事故的风险大小,提出相对应的安全对策措施,以达到系统安全的目标。     

硬质合金基体FCVA沉积TiAlN薄膜的试验研究

采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜,用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度;采用X射线衍射(XRD)分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析;并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合力进行定性的分析。结果表明:TiAlN薄膜厚度在450~520nm之间;最高硬度为2754Hv,对应氮气分压为N2分压在8.0×10-2Pa~1.1×10-1Pa;薄膜中主要存在Ti2AlN、Ti2N与TiN相。