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磁控溅射工艺控制模式比较 总被引：1，自引：0，他引：1
对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性. 相似文献
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对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较 ,分析各自的特色 ,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性 相似文献
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对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性. 相似文献
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报道在不加热的基底上,由双离子束溅射或离子辅助的电子束蒸发技术制的ＺｒＯ２和ＴｉＯ２单摹光学性质,并提供卫工艺参数和离子束设备的说情。这两种荷 能离子束工艺已被用于光学多层膜,如减反射膜和短波通滤光片的制备 相似文献
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