纳米光刻加工技术的研究与应用

纳米技术是一种在0.1-100nm尺度上研究原子、分子现象及其结构信息的技术。纳米技术的主要作用体现在两个方面:①促进器件小型化,使低成本、高集成度的微器件、微传感器、微型仪器成为可能;②物质在纳米尺度上表现出纳米效应,包括量子效应、较强的表面、界面效应等,会使得物质具有很多新特性,从而能够制造出新的具有特定功能的装置。纳米技术的最终目标是操纵单个原子和分子,并在纳米尺度上设计制备表面结构,进而制造出具有特定功能的产品,实现生产方式的飞跃。主要综述当前几种主要纳米光刻加工技术的类型、工艺、特点,及其在表面纳米结构加工中的应用。     

化学机械抛光机理研究

虽然CMP过程材料去除机理得到了广泛深入研究,取得了许多理论成果,但是每一种理论都存在着或多或少的缺陷,没有一种理论完全正确的解释了CMP的机理。在众多CMP材料去除机理里,比较得到认可的是抛光垫、颗粒和工件表面三体磨损理论和化学腐蚀理论[1~4]。但是表面质量较好的工件在CMP之后没有观察到划痕,三体磨损理论受到了极大的挑战。而化学腐蚀理论很难解释腐蚀速度和腐蚀后表面质量关系[5,6]。本文结合CMP过程的实际环境,实验得到了化学机械抛光的抛光机理。