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离子束混合形成氮化钛膜的摩擦和光学性能 总被引:2,自引:0,他引:2
用载能氮离子束轰击纯铁镀钛膜样品,成功地形成了金黄色氮化钛薄膜。结果表明:注入剂量为0.5×10^17 N^+/cm^2的混合样品表面颜色与纯金类似;氮离子束混合样品表面显微硬度及耐磨性都远优于纯铁基体,且随离子剂量的增加,混合样品的表面硬度和耐磨性也提高。 相似文献
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室温低下脉冲等离子体生长立方氮化硼薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
运用脉冲高能量密度等离子体,在室温下制成立方氮化硼薄膜,沉积薄膜的衬底材料分别选用单昌硅,氯化钠和GCr15轴承钢,用扫描电镜,透射电镜,红外吸收谱仪,扫描Auger微探针等对沉积的薄膜进行了分析与测试,结果表明,氮化硼薄膜的结构及性质强烈地依赖于实验条件。 相似文献
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磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响.对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ~2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究.结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20~70 nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜平面也发生了定向排列. 相似文献
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钼薄膜的制备、力学性能和磨损性能 总被引:1,自引:0,他引:1
采用直流磁控溅射技术在GCr15轴承钢底材上沉积了钼薄膜。利用XRD,AFM对不同负偏压下沉积的钼薄膜的结构和表面形貌进行了表征;利用纳米压痕仪对薄膜的硬度和膜基结合强度进行了测定;最后利用DF-PM型动静摩擦系数精密测定仪和扫描电镜(SEM)研究了薄膜的硬度、残余模量与负偏压的关系。结果表明:利用直流磁控溅射法制备的钼薄膜的硬度随负偏压的变化存在最大值,另外负偏压还影响薄膜的微结构、粗糙度以及膜基结合力,但负偏压的改变对钼薄膜的摩擦系数影响不大。 相似文献