用于BaF2闪烁光慢成分抑制的膜系设计及制备

利用BaF2闪烁光快、慢成分处于不同波段的性质，设计出了具有特定带隙的膜系结构，用于抑制发射光谱中的慢成分。在保证快成分具有一定透过率条件下，实现了对BaF2闪烁光慢成分的全方向抑制，使晶体的快慢比得到很大提高。从膜系γ射线辐照损伤的结果可知：辐照对膜系透射带和截止带的影响不大，辐照后的膜系仍能满足抑制要求。     

X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究

用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积 Mo薄膜 ,将薄膜在真空环境中进行热处理 ,用扫描探针显微镜 ( SPM)方法观察了薄膜的表面形貌 ,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系。发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向 ,内应力沿径向对称分布 ,切向应力比径向应力更具有压应力特性 ,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关。真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显 ,然而能有效地释放薄膜中的张应力。用 HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑 Mo薄膜 ,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化。     

多层金属/介质膜系中Al层的作用分析

设计了一维金属/介质多层膜系,膜系由几个周期的高折射率(Al₂O₃)/低折射率(MgF₂)材料所组成.在低折射率材料中插入金属层(Al),对膜系进行了优化,利用电子束蒸发方法制备了该膜系.实验表明,不仅Al层的总厚度直接影响透射谱的形状,在同样Al层总厚度情况下,Al层厚度分布对膜系也有影响.寻找到了最佳Al层分布结果,并通过了实验验证,制备出了能很好抑止BaF2晶体发射光谱的长波成分的膜系.     

超薄膜生长过程中分形凝聚体的计算机模拟

利用计算机模拟了超薄膜中分形凝聚体的生长 ,考虑了薄膜生长过程中的团簇扩散和旋转。开始的团簇生长采用不同允许扩散步长下准圆形团状生长的分子动力学模型。研究了基底上分形凝聚体中团簇的扩散和旋转对表面形貌的影响 ,引进了团簇的扩散和旋转因子。结果表明 :初始的小团簇经过无规则的扩散和旋转逐渐凝聚成具有分支状的凝聚体。团簇的旋转对分形结构的维数值没有太大的影响。     

X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究

用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜,将薄膜在真空环境中进行热处理,用扫描探针显微镜(SPM)方法观察了薄膜的表面形貌,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系.发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向,内应力沿径向对称分布,切向应力比径向应力更具有压应力特性,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关.真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显,然而能有效地释放薄膜中的张应力.用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化.     

用于同步辐射单色器多层膜的研究

结合Fensnel反射系数公式与Nevot-Croce模型，设计出了可以用于同步辐射单色器的W／B4C周期多层膜，并对其光学性能（反射率）做了模拟计算。采用高真空磁控溅射技术，实现不同周期的W／BaC周期多层膜的制备。利用英国BEDE公司出产的D1高分辨X射线衍射仪，完成W／B4C周期多层膜周期结构的测量。在北京同步辐射荧光束线（4W1B）上，利用W／B4C多层膜获取准单色光，实现材料的荧光分析实验。实验结果证明，W／B4C多层膜对同步辐射白光起到了单色的作用，可以得到高强度的准单色同步辐射X射线。     

超薄膜生长过程中分形凝聚体的计算机模拟

利用计算机模拟了超薄膜中分形凝聚体的生长,考虑了薄膜生长过程中的团簇扩散和旋转.开始的团簇生长采用不同允许扩散步长下准圆形团状生长的分子动力学模型.研究了基底上分形凝聚体中团簇的扩散和旋转对表面形貌的影响,引进了团簇的扩散和旋转因子.结果表明:初始的小团簇经过无规则的扩散和旋转逐渐凝聚成具有分支状的凝聚体.团簇的旋转对分形结构的维数值没有太大的影响.     

具有更低折射率比的全向高反膜的设计

对于λ/4膜系,如欲实现宽带全向反射,宜采用高折射率比的镀膜材料,讨论了在低折射率比条件下的全向高反膜。借助Filmstar膜系设计软件对所设计的几种初始膜系进行了优化,并分析了材料折射率和吸收以及膜厚误差对优化结果的影响。在此基础上,采用高斯分布的初始膜系,优化设计了高低折射率分别为2.16和1.44的全向高反膜。它在530nm处对任意入射角都具有98%以上的反射率,并在530nm～560nm波段内对从0°～60°入射的光具有99%以上的反射率。