纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性

针对传统磨料的固定磨料抛光布容易在加工表面产生划伤,以及材料去除效率低等问题,提出了采用微米级球形聚集氧化硅粒子的固定磨料抛光布。将纳米聚集氧化硅粒子添加到抛光布中,用pH为10.5的碱性水溶液替代传统的抛光液,进行了Si基板的的抛光加工试验。与传统采用不规则形状天然氧化硅及球形熔融氧化硅固定磨料抛光布进行了比较,得到了纳米聚集氧化硅的固定磨料抛光布的加工特性,并讨论了它的基本参数对加工特性的影响。实验得到了与现行纳米抛光液(重量百分比为3%,pH=10.5)相同的材料去除率,加工表面粗糙度降低了约30%。与传统不规则形状天然氧化硅磨料抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布的磨料为球形,弹性系数仅为其1.4%~60%,因此不易划伤抛光表面。与熔融氧化硅抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布在pH为10.5的碱性水溶液中磨料表面可吸附的[-OH]离子提高了25倍,使得液相化学去除作用增大至去除率的70%以上。另外,随着纳米聚集氧化硅的微米粒径的增大,固定磨料抛光布的纳米级加工表面粗糙度几乎不变,但对前加工面表面粗糙度的去除能力明显增大,表现出微米粒径效应。     

基于Pickering乳液介质萃取苯胺的研究

以Pickering乳液为介质,研究了苯胺的静态和动态萃取过程.考察了乳液用量、氧化镁粒子用量和萃取级数对静态萃取效率的影响作用,以及苯胺进水浓度、乳液用量和进水流速对动态萃取过程的影响作用.结果表明,在静态条件下,乳液单级萃取苯胺的效率为70％,三级萃取效率超过98％.随着Pickering乳液的用量和萃取级数的增加,静态萃取效率提高:随着MgO粒子用量的增大,静态萃取效率呈现先提高后减小的变化趋势.苯胺的动态萃取行为与固定床吸附过程类似,随着乳液用量增加、进水流速减小和进水浓度的减小,出水保持较低浓度(萃取效率高于99％)的时间延长,相应的穿透时间也增长.该研究方法为萃取工艺开辟了新的思路,还可用于中草药有效成分提取、污水处理等分离过程.     

光纤插头端面加工中材料去除的分析

为了研究光纤端面的现行加工工艺,提出了一种光纤端面材料去除的分析方法。对被加工光纤端面和研抛工具先进行研磨压力的有限元分析,再模拟计算光纤研磨速度,最后分析去除率的材料。结果表明:光纤端面材料去除率的变化周期主要受研磨速度影响;成形初期的研磨去除率分布主要受研磨压力的影响;与平动式光纤研磨机相比,用行星回转式光纤研磨机加工一批单芯光纤和MPO多芯光纤插头时,由研磨速度的差异引起的各纤芯间材料去除率变化的最大值分别为3%和0.32%。本模拟分析方法建模简单,直观,模拟分析结果与生产现状相一致。