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近年来,随着信息技术的迅速发展,半导体的集成度逐年提高,需要开发毫微米级(纳米)硅片的加工技术和检查技术。以前,硅片的加工和检查一直使用激光装置,但为了适应高密度化,开发比激光波长更短的电子射线半导体制造装置正在成为一种趋势。 相似文献
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