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本文介绍和讨论了在激光器中一些低反射率的激光光学膜以及用来测定这类光学膜低反射率的一种自行设计低反仪。这类低反射率的测量数字是评价它们质量的重要参数和指标。 相似文献
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实验所用的晶体沿〈100〉解理。~(60)Coγ辐照剂量分别为5×10~4rad、5×10~5rad、1×10~6rad、5×10~6rad、1×10~7rad。吸收光谱测量使用岛津UV-360型光谱仪。为计算色心密度,全部测量均设置于同一吸收档。正电子寿命谱测量使用快-慢符合正电子寿命谱仪。谱仪的双高斯分辨函数的参数为:半高宽度W_1=(0.35±0.02)ns,W_2=(0.46±0.04)ns,相对强度I_1=(68.7±1.0)%,I_2=(31.3±1.0)%,中心相对位移为(0.061±0.002)ns。正电子源为10μCi的~(22)Na,每个谱总计数不少于9×10~5,环境温度T=23.5±0.5℃。数据处理采用positronfit程序在B—1955计算机上进行。 相似文献
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介绍了用于激光器件上的非1/4λ_0两层增透膜的膜系矢量作图设计法。在LiIO_3、KDP、熔石英、石英晶体片等基板上蒸镀ZnF-ThF_4和ZnS-MgF_2非1/4λ_0两层增透膜,获得在λ_0=1.06μ处反射率优于0.3%的结果。 相似文献
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