原料的预均化和离析对出磨生料质量的影响分析与改进措施

我厂3条5 000t/d生产线的6台生料磨都不同程度地存在以下问题：出磨生料质量及成分波动大、磨机系统漏风严重和电耗高,严重制约了烧成工序的生产和生料各项生产指标。结合我厂生产过程质量控制情况和生料制备工艺现状,对出磨生料质量合格率影响因素分析如下。     

提高5000t/d生产线生料质量和产量的方法

我公司九里制造一厂3条5000t/d生产线6台生料磨都不同程度地存在出磨生料质量及成分波动大、磨机系统漏风、电耗高的问题。出磨生料的均匀和稳定是熟料产、质量提高的前提和关键。结合生产过程质量控制情况和生料制备工艺现状在各个环节作了改进,分述如下。     

提高点5000t/d生产线生料质量和产量的方法

我公司九里制造一厂3条5000t/d生产线6台生料磨都不同程度地存在出磨生料质量及成分波动大、磨机系统漏风、电耗高的问题。出磨生料的均匀和稳定是熟料产、质量提高的前提和关键。结合生产过程质量控制情况和生料制备工艺现状在各个环节作了改进,分述如下。     

提高5000t/d生产线生料质量和产量的方法

我公司九里制造一厂3条5000t/d生产线6台生料磨都不同程度地存在出磨生料质量及成分波动大、磨机系统漏风、电耗高的问题。出磨生料的均匀和稳定是熟料产、质量提高的前提和关键。结合生产过程质量控制情况和生料制备工艺现状在各个环节作了改进,分述如下。     

Co与Cu掺杂ZnO磁性薄膜的溶胶-凝胶旋涂法制备

用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上制备了Co,Cu单掺杂及(Co,Cu)共掺杂ZnO薄膜.磁性测量表明,无论是单掺还是共掺的ZnO薄膜都具有室温铁磁性,且Co掺杂和共掺杂ZnO薄膜的磁性相近,而Cu单掺ZnO薄膜磁性稍弱一点.用原子力显微镜和X射线衍射研究了Co,Cu掺杂对ZnO薄膜表面形貌和晶体结构的影响,在薄膜中没有发现第二相和磁性团簇的存在,且所有ZnO薄膜样品都存在(002)择优取向.室温光致发光测量在所有的样品中都观察到447和482 nm附近的蓝光发射,认为是由于氧空位浅施主能级上的电子到价带上的跃迁所导致的.     

HRM立磨减速器推力瓦移位的快速处理

1故障情况及分析我公司有2台HRM3400立磨,配置MLX200-12-0立式减速器,该减速器速比34.83,输入转速994r/min,2007年12月投入生产。在2008年6月9日夜班时,1号磨的减速器有10个高压油表出现压力异常,     

Cu掺杂ZnO薄膜的结构及发光特性

采用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上制备了不同Cu掺杂量的ZnO薄膜。用显微镜和X射线衍射(XRD)研究了Cu掺杂对ZnO薄膜形貌和微结构的影响。结果表明,制备得到的ZnO薄膜具有应变小和c轴择优取向。室温下测量了样品Zn1-xCuxO的光致发光(PL)谱,发现所有样品的PL谱中均观察到435nm左右的蓝光发光带,发光带强度与Cu的掺杂量有关;当x=0.06时,Zn1-xCuxO薄膜的PL谱中出现了较强的蓝光发射。分析了掺杂量对发光性能的影响,并对样品的发光机制进行了探讨,推断出蓝光峰来源于电子由导带底到锌空位(VZn)能级的跃迁及锌填隙(Zni)能级到价带顶的跃迁,它们可通过改变Cu的掺杂量予以控制。