黄河流域高质量发展中的跨区域政府协同治理

黄河流域生态保护和高质量发展上升为国家战略,协同治理成为实施该战略的关键抓手.在研究黄河流域生态环境特征、治理进展的基础上,总结了黄河流域环境治理普遍存在"跨界治理"权限不清、第三方治理参与度低、自然因素复杂、经济产业支撑不足等问题,通过借鉴国外流域环境治理的成功经验,提出了黄河流域跨区域政府协同治理机制及发展路径,即...     

我国网络民主发展的问题与对策

随着我国网络化水平的不断提高,网络民主成为人们关注的对象。目前对"网络民主"的研究还处于初级阶段,尚缺乏系统深入的研究。文章在界定网络民主涵义的基础上,阐述我国"网络民主"发展存在的问题,并提出相应的对策,以期促进我国网络民主的健康发展。     

单位型住区多层住宅公共空间适老化改造设计研究

随着我国人口老龄化程度嘚瑟不断加重，单位型住区中老龄化问题更加突出，而这些住区中的住宅，大都是不带电梯的多层住宅，其很多方面都已不能满足老年人的生活需求。因此，有必要对这类住宅的适老化改造进行研究。     

基于轻量操作系统的虚拟机内省与内存安全监测

针对在传统特权虚拟机中利用虚拟机内省实时监测其他虚拟机内存安全的方法不利于安全模块与系统其他部分的隔离,且会拖慢虚拟平台的整体性能的问题,提出基于轻量操作系统实现虚拟机内省的安全架构,并提出基于内存完整性度量的内存安全监测方案。通过在轻量客户机中实现内存实时检测与度量,减小了安全模块的可攻击面,降低了对虚拟平台整体性能的影响。通过无干涉的内存度量和自定义的虚拟平台授权策略增强了安全模块的隔离性。基于Xen中的小型操作系统Mini-OS实现了虚拟机内省与内存检测系统原型,评估表明该方案比在特权虚拟机中实现的同等功能减少了92%以上的性能损耗,有效提高了虚拟机内省与实时度量的效率。     

移动数字取证技术

对应移动数字取证技术的4个方面:移动设备取证、移动系统取证、移动网络取证和移动应用取证,给出了移动设备取证的步骤和手段,基于i OS和Android系统的数字取证技术及其特点,移动网络下数字取证的基本手段和技术,移动应用取证的基本特征;认为随着越来越多的新概念和新技术的发展,未来智能移动终端数字取证技术将成为数字取证的主流之一。     

ETSG-SMT:一种SMT时间信道安全问题描述模型

同时多线程(simultaneousmulti-threading,SMT)技术是现代高性能处理器的标配技术,是提升线程级并行度的重要微架构优化技术之一. SMT技术在带来性能提升的同时,也引入了新的时间信道安全问题,相对于跨核、跨处理器,SMT技术下的时间信道安全问题更难应对和防护,且陆续有新的安全问题出现.当前缺少一种系统描述SMT环境下时间信道安全问题的方法.从利用SMT技术产生时间信道的原理入手,聚焦SMT环境下共享资源产生的时间信道及其攻击机理,基于拓扑排序图(topologicalsortgraph,TSG)模型,结合数据流分析扩展得到一种适用于SMT环境下的时间信道安全问题描述模型——ETSG(extendedtopologicalsortgraph,扩展的拓扑排序图)-SMT.首先介绍SMT环境下时间信道安全问题利用和防护的技术特点以及使用TSG模型分析SMT环境下时间信道安全问题的限制与不足;然后在TSG模型基础上,针对SMT技术特征及其安全问题的形式化描述特点,结合数据流分析技术形成一套新的建模方法;最后,通过将ETSG-SMT模型应用到SMT环境下现有的攻击方法和...     

基于动态资源使用策略的SMT执行端口侧信道安全防护

同时多线程(simultaneous multi-threading,SMT)技术是提升线程级并行度的重要微架构优化技术之一,SMT技术能够在1个物理核上实现2个逻辑核,提升处理器的整体性能.然而,以共享执行端口为代表的SMT环境下特有的时间侧信道安全问题也陆续出现.提出了一种基于动态资源使用策略的SMT环境下执行端口时间侧信道攻击防护方法,基于SMT技术对数据结构资源的不同处理方式设计动态策略调整算法,通过改进处理器端口绑定及调度选择算法以防护SMT环境下执行端口时间侧信道攻击.防护设计实现了端口冲突矩阵、分支过滤器和动态资源使用策略修改器3个组件,该方法在防护有效性上可以达到关闭SMT技术的防护效果且性能开销大大降低,同时硬件开销可控,具有较高的应用价值.     

从房价高涨透析地方政府官员行为

近年来,一些地方官员与房地产开发商相互勾结,成为房价畸高的一个重要因素．究其原因在于：缺乏有效的制约监督机制：用人考核制度不健全;公众参与力度不够等。应坚持反腐倡廉建设,树立“反腐也是政绩”的观念,健全用人考核制度及监督机制．号召全民反腐,从而遏制房地产领域的腐败。     

喷墨打印OLED发光层像素坑内成膜控制方法

在OLED发光层喷墨打印制备中,像素坑内成膜厚度控制是抑制器件产生Mura缺陷的关键。不同喷孔液滴体积差异和液滴错误沉积引起的像素坑内融合溶液体积变化,是造成发光层膜厚不一致的主要原因。为解决膜厚一致性问题,本文提出了基于液滴体积控制与沉积定位控制的OLED发光层成膜控制方法。首先调节驱动波形使不同喷孔产生体积适配的液滴;然后检测各喷孔的液滴落点位置,通过偏移补偿和异常喷孔筛选控制液滴精准沉积;最后使用不同液滴混合方法控制像素坑内溶液体积。在实验中,将液滴沉积定位偏差控制在±10μm,将液滴混合后溶液体积差异控制在±4%,测量干燥固化后的薄膜厚度,结果表明,不同像素坑膜厚一致性提高至95%以上,获得了发光均匀的OLED器件。本文提出的膜厚一致性控制方法达到预期、满足OLED功能层制备要求。