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磁过滤真空弧等离子体钛沉积膜的XPS研究 总被引:1,自引:1,他引:0
通过磁过滤真空弧等离子体沉积技术,在单晶Si和H13钢衬底上生长一层Ti沉积膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪对膜层进行了测量和分析。结果表明,加上磁过滤器的沉积膜表面平整光洁,无“液滴”出现。在靶室真空度不高的情况下,膜层中的Ti以TiO的形式存在,并且TiO晶粒沿<110>方向择优取向。膜层表面的TiO进一步与大气中氧发生反应形成TiO 相似文献
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