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1.
2.
详细介绍了攀钢4000t/a硫酸法钛白粉厂回转窑改造的几点经验,通过对攀钢钛业公司回转窑提质,扩能的改造,做到挖掘设备潜能,提高设备利用率,提高煅烧钛白粉质量。  相似文献   
3.
A systematic investigation of the magnetic and transport properties of Ti doped La0.67Ca0.33MnO3 was reported. The Ti substitution for Mn ions results in a reduction in ferromagnetism and conductivity. The metal-insulator transition temperature is close to Curie temperature which decreases from 274 to 82 K as x increases from 0 to 0.17. The most important effect of Ti doping is to introduce spin clusters in the samples due to the distortion of local lattice and the inhomogeneous magnetic structure induced primarily by the random distribution of Mn ions. A maximum magnetoresistance ratio as large as 90% in 1 T at 122 K was obtained for the sample with x =0. 055, which is four times larger than that obtained for LCMO sample at 272 K. There is a remarkable field-history dependent MR in the cooling process for the doped samples while such phenomenon disappears in the warming run. The resistivity follows well the variable range hopping behavior in paramagnetic state. Both the size effect and spin dependent hopping of carriers between the spin clusters should be considered in this system.  相似文献   
4.
基于可编程逻辑阵列的RS232至RS422的串行口扩展电路   总被引:4,自引:0,他引:4  
介绍了利用可编程逻辑阵列把1路RS232扩展至4路RS422的串行口电路设计方法。该扩展电路不占用PC系统资源,同时具有结构简单,使用方便,通用性和可补性强等特点,可广泛应用于主从式多机通讯系统中。  相似文献   
5.
根据GPRS业务及业务发展情况,对GPRS业务模型进行深入研究,并对GPRS无线网络进行了更深入的探讨。  相似文献   
6.
剪影在英文中叫做"Silhouette",是摄影师常用的创作手法。简单说就是非透明物体置于高亮背景前,使主体曝光不足,背景曝光正常或过度,画面中就会呈现出物体的外形轮廓,我们称此类照片为剪影照片。剪影照片表现的只是物体的轮廓,而不要求表现物体的细节层次。剪影照片可以通过明暗对比,形成强烈的视觉冲击。  相似文献   
7.
中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀   总被引:2,自引:2,他引:0  
多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时,应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺,如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺,存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究,成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀,做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。  相似文献   
8.
本文阐述了300机组利用现有设备,打破传统的蝶式孔设计方法,通过合理地选用孔型参数,在φ350轧机上成功轧制了∠80角钢,扩大了产品规格,拓宽了销售范围。  相似文献   
9.
10.
本文采用气压一波长扫描F—P干涉法测量了国产半导体激光器的输出线宽.测量结果表明:质子轰击条形AlGaAs/GaAs(DH)注入激光器线宽典型值为3.2GHzmW~(-1).该结果与C.H.Henry的半导体激光器的线宽理论相差27倍.为解释这误差,本文从半导体激光器的噪声理论和激光器谐振腔理论出发,具体分析了条形半导体激光器谐振腔波导结构,讨论了半导体激光器线宽的结构增宽,修正了C.H.Henry的线宽理论公式.经过修正的线宽理论公式具有更普遍意义,并与实验结果取得了基本一致.  相似文献   
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