涂层成份及结构的X射线光电子谱分析

以硬质合金作为衬底，分别采用了化学涂层（ＣＶＤ）和物理化学涂层（ＰＣＶＤ）的技术涂复Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－ＴｉＮ硬质膜，应用Ｘ射线光电子谱分析（ＸＰＳ）技术，研究涂层表面化学成分，元素化学状态，物相组成及基随深度的变化，涂层表面由Ｔｉ，Ｎ，Ｃ，Ｏ和 Ｃｏ组成；表面物相包括ＴｉＮ，ＴｉＯｘ及ＣｏＣ。随着深度的增加，Ｔｉ：Ｎ迅速变为１，而ＴｉＯｘ和ＣｏＯ含量急剧减少。     

温度和时间对TiN涂层性能的影响

采用物理化学气相沉积技术，在不同的温度和时间下制备２组ＴｉＮ涂层试样，讨论了温度与时间对涂层性能的影响，并在微观结构分析基础上，讨论了时间和温度等工艺参数与微观结构和性能间的关系。